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第4章 MOSFET
西安电子科技大学 微电子学院
贾新章
xzjia@xidian.edu.cn
2013年12月
4-2 MOSFET器件工作原理定量分析
一、基本出发点
(1) 沟道电流沿水平方向(X
方向) ,沟道电流为多子漂移
电流,载流子迁移率为常数。
(2) 栅与沟道之间电流=0
(3) 缓变沟道近似:沟道区
中感应产生表面沟道的垂直
方向电场(取决于VG )远大
于产生沟道漂移电流的水平
方向电场(取决于VDS )。
沟道中可动面电荷密度Qn(x)=C (V -V )沿X方向“缓变”
OX GX T
面电荷密度另一种表示:Q (x)=en(x)h(x)
n
式中h(x)为X处导电沟道的厚度
4-2 MOSFET器件工作原理定量分析
4-2 MOSFET器件工作原理定量分析
可以提取出阈值电压V 和迁移率μ
T
4-2 MOSFET器件工作原理定量分析
2、饱和区(VDS ≥VDS(sat)= VGS-VT )
(1) 基本关系式
饱和区电流保持漏端刚夹断时,即VDS=VDS(sat) 时的非饱和
区电流不变,因此将非饱和区电流表达式中的VDS代为VDS(sat) =
VGS-VT ,就得饱和区电流表达式
4-2 MOSFET器件工作原理定量分析
可以提取出阈值电压V 和迁移率μ
T
4-2 MOSFET器件工作原理定量分析
4-2 MOSFET器件工作原理定量分析
4-3 MOSFET器件阈值电压
MOS结构能带图 预备知识
1、功函数:
将位于费米能级的电子
移至真空能级所需能量
2、半导体电子亲合能:
将位于导带底的电子移
至真空能级所需能量
3、半导体费米势Φ :
fp
Φ =(E -E )/e
fp i F
记掺杂浓度为Na
得:Φ =(kT/e)Ln(N /n )
fp a i
4-3 MOSFET器件阈值电压
4-3 MOSFET器件阈值电压
一、理想MOS结构阈值电压
1、理想MOS结构近似条
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