溶胶凝胶法制备平整4=！薄膜及其表征.PDFVIP

第! 卷第# 期 南 京 工 业 大 学 学 报 189: ! +8: # !$$% 年# 月 ’()*+,- (. +,+’/+0 )+/12*3/45 (. 4267+(-(05 ’;: !$$% 溶胶凝胶法制备平整4=(! 薄膜及其表征 周雪锋，钱清华，胡煜艳，陆小华 （南京工业大学 化学化工学院，江苏 南京!#$$$ ） 摘 要：以钛酸四丁酯为前驱体，通过溶胶凝胶法制备表面平整、致密的4=(! 薄膜，并且通过热重分析仪（40, ）、? 射线衍射仪（?*@ ）、衰减全反射红外线光谱分析仪（,4* /* ）、扫描电子显微镜（32A ）、原子力显微镜（,.A ）和接 触角测量仪等研究4=(! 薄膜的晶相、组成和表面的微观结构、润湿性。利用4=(! 薄膜表面部分覆盖的十八烷基三 氯硅烷自组装单分子层在紫外光照下的降解来研究其光催化性能，并且用水在该薄膜上的接触角的变化来表征十 八烷基三氯硅烷的降解量。研究结果表明： 4=(! 薄膜具有很低的粗糙度，透明的锐钛矿相薄膜在较弱的紫外光照 强度下具有较好的光催化性能，在自清洁和光学薄膜领域有潜在的应用前景。 关键词：溶胶凝胶法； ! 4=(! ；原子力显微镜 中图分类号：4B%CD 文献标识码：, 文章编号：#%E # F E%CD（!$$% ）$# F $$!! F $G 自从 #E! 年 .HI=JK=L; 和 78M; 发现4=(! 电 32A 和,.A 进行了表征，并且研究了4=(! 表面部 极在紫外光照下能降解水产氢以来， 4=(! 成为研究 分覆盖十八烷基三氯硅烷自组装单分子膜（(43 ）在 的热点［#］。4=(! 具有高光催化活性、无毒、物理和 紫外光照下的降解。 化学稳定性好等特点，在光还原降解水和光催化氧 化降解有机污染物等领域有广泛的研究［! F D ］。同 # 实验部分 时，4=(! 具有高折射率、高介电常数和可见光透光 率好等特性，越来越受到光学和电子学研究者的青 #Q # 4=(! 溶胶的制备 睐［C ］。近年来，研究者发现4=(! 在紫外光照下，具 以钛酸四丁酯（4= （(6 7 ））作为溶胶前驱 C C 有超亲水，甚至同时具备超亲水和超亲油的特性，这 体，通过溶胶凝胶法制备4=(! 溶胶。所需试剂为 些性质在表面自清洁和表面防雾等方面有重要的 钛酸四丁酯、乙醇、去离子水、浓硝酸和乙酰丙酮 应用［G F E ］。 （67 6(67 6(67 ，,R,R ），其 摩 尔 比 为 ［ ］ D ! D 目前4=(! 薄膜的制备方法包括溶胶凝胶法 ， !（4=（(6 7 ））S !（6 7 (7 ）S ! （7 ( ）S !（7+( ）S 气相沉积法［ ］ ［#$ ］ ［##］ C C ! G ! D ，原子层沉积法 和溅射法 等，其 !（,R,R ）T #S D$ S ! S $Q ! S $Q G 。在室温下，将钛酸四 中气相沉积法和原子沉积法等气相方法能够获得原