磁控溅射Pd膜对Zr70Fe54V246合金.PDFVIP

第44 卷 第1 期 稀有金属材料与工程 Vol.44, No.1 2015 年 1 月 RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING January 2015 磁控溅射Pd 膜对Zr70Fe5.4V24.6 合金 吸/放氢性能的影响 张 眯 ，胡 锐 ，张铁邦 ，张云龙 ，薛祥义 ，寇宏超，李金山 (西北工业大学 凝固技术国家重点实验室，陕西 西安 710072) 摘 要：采用磁控溅射技术在Zr70Fe5.4V24.6 (质量分数, %, 下同)合金基体上沉积Pd 膜。研究磁控溅射沉积Pd 膜的 生长特性和显微组织及Pd 膜对 Zr70Fe5.4V24.6 合金吸/放氢性能的影响规律。结果发现，在Zr70Fe5.4V24.6 合金基体 上磁控溅射沉积的Pd 膜具有fcc 结构并在（111）晶面有明显的择优取向。对镀膜后合金吸/ 放氢性能的测试结果表明， 磁控溅射沉积Pd 膜对Zr70Fe5.4V24.6 合金的活化性能及吸氢动力学无显著影响。沉积Pd 膜后Zr70Fe5.4V24.6 合金可 逆吸氢量H/A 由0.63 增至 1.20，吸氢平台增长量约为90% 。氢化物形成焓绝对值的平均值增大约77% ，生成熵的平均 值增大约56% ，沉积Pd 膜后的合金与氢结合所形成的氢化物更稳定。 关键词：储氢合金；磁控溅射；Pd 膜；吸氢动力学；吸氢量 + 中图法分类号：TG 139 .7 文献标识码：A 文章编号：1002- 185X(2015)01-0199-05 AB2 型Zr 基Laves 相储氢合金，具有储氢容量大、 维持器件真空度和提纯氢及其同位素的目的[10, 11] 。 [1, 2] 吸氢平衡压低、吸氢动力学快且易活化等优点 ，在 超低平衡压Zr 基Laves 相储氢合金的实际应用环 氢及其同位素的储存及分离、超真空泵以及核能系统的 境通常会存在少量O 、CO 、H O 等杂质气体，往往会 2 2 [3] 氚回收等领域有广阔的应用前景 ，AB2 型Zr 基储氢合 对Zr 基Laves 相储氢合金产生毒化作用，导致合金吸/ [4-6] 金主要包括 Zr-V 、Zr-Mn-Fe 、Zr-Fe 等合金体系 。 放氢能力减弱甚至完全丧失。将活化后的 Zr0.9Ti0.1V2 具有C14 、C15 型Laves 相结构的ZrV2 合金，作为AB2 合金在O2 中暴露30 s，合金几乎完全丧失了吸氢能力， 型Zr 基Laves 相储氢合金的典型代表，能够吸收大量 且在823 K/10 min 再生化处理后合金的吸氢量仅为未 的氢气，具有吸氢动力学效率高，室温吸氢平衡压低、 毒化合金的 16.4% [12] 。毒化气体可在储氢合金表面吸 且吸氢后不改变晶体结构等优点。然而ZrV2 吸氢PCT 附，占据表面的有效吸氢位