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(I.北京大学物理系,J晾 100871;2泉州师院物理系.福建 泉州 362000〕 ‘
摘 要:在真空中,将Co膜渡积在n型和p型Inp Plpn(l00)单晶外延片。在这些Inp片的背面傲好欧
村底上形成喃 固体InInp和q 团体l问a两种接 姆接触以后。将其正面用N践,OH:H八:H,。按体积
触。以及时它们的电学性质作了研究,结果表明它 比为2%二%‘:92%的房蚀液去层约 loam.然后将这
们均足民好的异质站,对于C司a-Inp,势全高度的 些底片用去离子水冲洗千净和用商纯N2气吹千并立
典型位为0.698成 在t1V偏压时。其整流tt大于 刻送进超高真空 (UHV)室等待作q淀积.Cm粉
10;对于Ctp-Inp,势全高度典型位为0.719OV以 末是用通常的交流电弧法生产的和盆复使用液相色
及在t2V偏压时,其整流比大于1护.深能饭瞬态讲 层法提纯的。在BALZERSUMS-S00UHV系统中
(DLTS)浏全表明,C动nP界面上存在若与样品有 将纯度为99.9哟 与粉末热升华到inP晶片的正面 1
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关的电于陷阶,其密度不高,意味琦q膜对IRP表 上。喃升华前弃空室真空度为1.3x100Pa,兔淀积
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