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268 材料工程／2008年lO期
不同环境气压下激光沉积制备锗纳米薄膜的研究
EffectofAmbientPressureGermaniumNanofilms
on
aPulsedLaser
Preparedby Deposition
程成1，薛催岭1，宋仁国2
(1浙江正业大学应用物理系，杭州310023；
2浙江王娩大学祝械制造及自动纯教育部重点实验室，杭州310014)
CHENG
Chen91，XUECui—lin91，SONGRen—gu02
(1 of of
DepartmentAppliedPhysics。ZhejiangUniversityTechnology，
of and
Hangzhou310023，China；2KeyLaboratory
AutomationofEducation of 310014，China)
Ministry，ZhejiangUniversityTechnology，Hangzhou
摘要：采用脉冲激光沉积(PLD)技术，在不同环境难强下于室温Si衬底上沉积制备出了Ge纳米薄膜。用X射线衍射
纹(XRD)秘羟接毫孑爱镦镜(SEM)磅究7嚣凌撬疆瑟薄骥熬徽溪续凌、形貔敬爱貘莓戆影嚷麓律。结暴表疆：掰翻备懿
纳米薄膜中Ge均为晶态}随着环境匝强的增大，薄膜表面由常规的量子点镶嵌结构演变为类网状结构；膜厚随着环境压
强的增大而减小。
关键谰：脉冲激光沉积(PLD)；锗；纳米薄膜；环境压强
串罱分类号：0484．1文藏标浚瓣：A 文豢编号：1001—4381(2008)10-0268-04
a laser Genanofilmsare onSisubstratein
Abstract：Usingpulse depositiontechnology，the prepared
variousambient ofAr effect
of“licrostructuresandfilmthicknessof
pressuresgas。The morphology
thenanofilmsisstudieda diffractionanda electron
by X—ray scanning
Genanofilmsobtainedareall inthe observedsurface
crystallizedexperiment．Further，theconfigura-
thefilmsiSevolvedfromthe
tionof embeddeddotsasusuaItothenet—likeassembled
quantum nanop—
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