单晶硅制备及其太阳能电池中运用毕业论文.docx

昆 明 学 院 2015届毕业论文（设计）论文（设计）题目 单晶硅的制备及其在太阳能电池中的运用 子课题题目 无 姓 名 胡渐平 学 号 201117030207 所属院系 物理科学与技术系 专业年级 物理学2班指导教师 张连昌 2015年5月摘要 本文研究单晶硅材料的制备及其在太阳能电池中的运用。制造太阳能电池的半导体材料已知的就有十几种，因此太阳电池的种类也很多。硅材料分为单晶硅、多晶硅、铸造硅以及薄膜硅等许多形态。虽然形态不一制作方法不尽相同，但是实现的目的是一样的。都是尽可能多的将太阳光的光能转化为电能，硅是地球上储藏最丰富的元素之一。目前作为单晶硅的制备方法分为直拉法（CZ）、区熔法（FZ），并且这两种方法是工业上运用最广的方法。从多晶硅中提炼出单晶,然后通过拉硅单晶棒、切割得到单晶硅圆片,再经过刻蚀,最后生产成太阳能电池组件。生产过程大致可分为五个步骤：（a）提纯过程（b）拉棒过程（c）切片过程（d）制电池过程（e）封装过程。本文就单晶硅的制备和在太阳能电池中的运用略作讨论。 本文中提高单晶硅太阳能电池的绒面工艺及电化学刻蚀工艺的原理及应用于太阳能电池中对效率所带来的影响的研究。单晶硅太阳能电池,是以高纯的单晶硅棒为原料的太阳能电池，是当前开发得最快的一种太阳能电池。它的构造和生产工艺已定型，产品已广泛用于空间和地面。采用的来提高单晶硅太能电池效率的各种理论研究，首先采用了电化学刻蚀工艺和绒面工艺两者对太阳能电池效率的影响，从理论上的结果来看采用两者工艺结合所形成的抗反射层可以使太阳能电池的平均反射率降到2％，并进一步研究了在电化学刻蚀中各种参数对太阳能电池表面形貌的影响。此外，论文还提出了另一种制备纳米硅抗反射层的方法及其在太阳能电池中的抗反射效果，研究发现这种制各纳米硅抗反射层的方法十分简单，且能够取得十分优异的降低反射率的效果，并且采用结合绒面工艺的纳米硅工艺所制得抗反射膜可以使得太阳能电池表面的反射率降到1％左右，甚至优于电化学刻蚀工艺和绒面工艺两者的结合。关键词：单晶硅；单晶太阳能电池；绒面工艺；电化学刻蚀工艺：环境保护AbstractThis paper studies the preparation of single crystal silicon materials and its use in solar cells. Semiconductor materials to make solar cells known to have a dozen, so there are many types of solar cells. Silicon material is divided into monocrystalline silicon, polycrystalline silicon, casting silicon and silicon thin films and many other forms. Although different form method is not the same, but the implementation of the purpose is the same. Is as much as the suns rays of light energy into electricity,zochralski method (CZ), zone melting method (FZ), and the two methods is the most widely used in industry. Derived from polycrystalline silicon single crystal, and then is obtained by drawing heavily sb-doped silicon rods, cutting single crystal silicon wafers, then after etching, the final production into solar modules. The production process can be roughly divided into five steps: (a) (b) pull rods purification process (c) (d) battery slice process (e) encapsulation process. In this paper, the preparation of single crystal silicon and briefly discuss the application in