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YBa,2Cu,3O,7-δ和MgB,2超导薄膜的制备及微观结构表征
摘要
摘 要
本论文研究目的是为制备电子学器件用YBCO薄膜和铁电/YBCO双
层膜提供实验参考,并提出一种用热丝化学气相沉积(HFCVD)原位生长
MgB2超导薄膜的方法。
了预处理。用脉冲激光蒸发普通固态烧结靶在0~l
50斜切SrTi03(001)单
沉积(PLD)法制备了Bao.1
融织构靶在正切SrTi03(00
法在蓝宝石基片上原位生长了MgB2超导薄膜。分析和表征了基片斜切角
度对薄膜表面形貌、微观结构和超导电性能的影响。测定了
Bao.1Sro.9Ti03/YBCO双层薄膜的基本微波性能。
运用原子力显微镜、高能反射式电子衍射和扫描电镜对预处理基片和
在其上生长的薄膜表面形貌进行了研究。用x射线衍射仪和透射电镜对薄
膜微观结构进行了分析和表征。用标准四引线法和磁化率测量法测定了薄
膜的超导临界转变温度(疋)。
制备了以“台阶流动方式生长的C取向YBCO薄膜。随基片斜切角度增
大,薄膜晶体质量下降,疋降低。当基片斜切角度大于60时,YBCO表面
产生了较大的台阶,表面粗糙度增大,并产生与台阶边缘垂直的裂纹或孔
1)基片上原位生长了晶体质量良
洞。用PLD法在】.20斜切的LaAl03(00
好和外延程度较高并具有明锐平直界面的Bao.i
K)没有受到其上铁电层生长的影响。该异质
质结。YBCO层的L值(88
结介电常数、介电损耗、可调谐性和品质因数基本上可以满足在液氮温度
应用的可调微波器件的要求。
用熔融织构靶制备的YBa2Cu307.6薄膜,不但没有显著降低疋,还明
显抑制薄膜表面颗粒的形成,且在基片表面上和薄膜内形成了具有良好外
延取向生长的纳米尺度的矩形Y203杂相颗粒。
用HFCVD方法在蓝宝石基片上原位生长出了单相的MgB2超导薄膜。
8
oC升高到600oC,薄膜的L由lK升高到36K,且薄膜
生长温度从400
致密度增大,结晶性增高。
斜切基片;脉冲激光沉积:热丝化学气相沉积
Abstract
thisthesisisthat areferenceto of
The of providing fabrication
purpose
for
YBCOfilmsandferroelectrics/YBCOfilms theirelectronics
bilayer
and forwardaninsitu methodof films
application growth MgB2
putting
hotfilamentchemical
using vapordeposition.
Miscut were exsitu in
SrTi03(oo1)substratespretreatedby annealing
invacuum.YBCO on
flow andinsitu filmswerefabricated
oxygen annealing
0~150
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