Zr-Cu非晶合金薄膜的制备及其晶化过程研究.pdfVIP

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2018-02-09 发布于浙江
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Zr-Cu非晶合金薄膜的制备及其晶化过程研究

摘要摘要本文采用磁控共溅射法在Si(111)单晶衬底上制备Zr。Cul．x二元非晶合金薄膜，采用X射线衍射(XRD)技术和原子力显微(AFM)技术研究了薄膜非晶形成随成分的变化规律，各种溅射条件对薄膜结构的影响以及非晶合金薄膜的晶化过程，并通过纳米压痕技术对薄膜的纳米硬度和弹性模量进行了测定。膜合金的非晶形成能力持续增强，表现出与相应的块体合金不同的变化规律。在0．1～0．5Pa范围内，随溅射气压的降低，薄膜易于获得非晶结构。衬底温度的升高和偏置电压的施加均不利于非晶结构的形成。利用XRD和AFM分别对退火态zr65Cu35非晶合金薄膜进行的结构和表面形貌分析，确定其晶化温度在300--350℃之间。研究了衬底一薄膜界面形核和薄膜表面形核两种形核方式，其中前者可使晶粒长成按一定取向排列的矩形形态。利用纳米压痕仪表征了薄膜的力学性能，结果表明，Zr65Cu35非晶态合金薄膜具有很高的纳米硬度和弹性模量，远超过退火后的晶态合金薄膜，在耐磨涂层材料领域有很好的应用潜力。关键词Zr-Cu非晶合金；薄膜；磁控溅射；晶化。燕山大学工学硕士论文 Abstract Inthis thinfilmswere on amorphousalloy prepared paper,ZrxCul《binary magnetron Si(111)substrateby CO·sputtering．X-ray atomforce usedto theformationof microscope(AFM)werestudy amorphous films、Ⅳiththe ofchemical influence alloy change composition．11lcofsputtering conditionsonthestructureoffilmsandthe of crystallizingprocessamorphous filmswerealso isusedtomeasurethe alloy investigated．Nanoindentor modulusoffilms． nanohardnessandelastic XRD of The resultsindicate thescale that，in 35_x曼65，theamorphous the of offilmsrises wim increasex．whichis formingability continuously differentfromthe bulk the scaleof0．1--4)．5 counterpartalloy,Inpressure Pa，the decreaseof benefitsto substrate sputteringpressure amorphousformation．High andbias areunfavorabletot