混合复消色差系统研究.docVIP

目 录 1. 引言 1 1.1 混合复消色差发展的历史回顾 1 1.2 国内外研究现状 2 1.2.1 设计理论方面的进展 3 1.2.2 应用方面的进展 5 1.3 混合复消色差设计的未来展望 7 2 衍射理论的色差分析 8 2.1 圆孔衍射的成像原理 8 2.2 色差产生的衍射机理 9 2.3色差的计算 10 2.4 色差的校正 11 3 混合复消色差的特性 12 3.1 混合复消色差的衍射效率 12 3.2 混合复消色差元件衍射强度分布及特点 12 3.2.1 不同衍射级次的衍射效率 15 3.2.2 衍射效率对混合光学系统性能的影响 16 3.3 混合复消色差设计成像的性质 17 3.3.1 混合复消色差设计的光焦度 17 4 折/衍混合系统的设计 19 4.1天塞镜头 19 4.2天塞镜头的设计 19 4.2.1 输入原始数据 19 4.2.2 系统第一次优化 23 4.2.3 系统第二次优化 27 4.2.4 系统第三次优化 30 5 结论 33 参考文献 34 致 谢 37 1 引言 根据光的折射和反射原理工作的传统成像光学系统在设计时经常会遇到一些原理性和技术性的限制，从而不得不在光学系统的性能、结构和成本之间做某些牺牲以求得某种平衡，这种状况已持续多年，使得成像光学系统的发展十分缓慢。自八十年代中期以来，衍射光学及混合复消色差得到了迅速的发展，并成为光学领域最具活力的研究方向之一，给传统光学系统的发展注入了新的活力。将衍射光学元件的原理和技术应用于成像光学系统，创造出新一代衍射混合光学系统，可以突破传统光学系统的限制，有利于成像光学系统色差及其它高级像差的校正，对提高成像光学系统的性能、简化系统结构、降低系统成本具有重要意义[1]。混合复消色差元件是指基于光波的衍射理论，利用计算机辅助设计，并利用超大规模集成电路制作工艺，在基片上(或传统光学器件表面)产生两个或多个台阶深度的浮雕结构，形成纯相位、同轴再现、具有极高衍射效率的一类衍射光学元件。这一定义清楚地阐明了衍射光学的理论基础、元件的制作方法、结构特点以及实际应用中所表现出的优势[2]。混合复消色差元件是纯位相型同轴浮雕式衍射光学元件，并以多台阶位相结构来近似连续浮雕结构，同时在制作时，利用计算机设计和超大规模集成电路制作工艺等技术生产的一种高效率的新型功能元件。 1.1混合复消色差发展的历史回顾 元件源于全息光学元件，特别是计算全息光学元件，是一种位相型的衍射光学元件。衍射光学元件的使用可以追溯到1987年，L.RayLeigh首先使用一种菲涅耳波带板的元件，以后出现的衍射光栅和菲涅耳透镜也是衍射光学元件。由于这些衍射元件的实际用途有限，所以很久得不到重用。 20世纪40年代末英国科学家丹尼斯加伯(Dennis Gabor)提出全息的概念，由于没有良好特性的涉光源，所以迟迟没有大的发展。1966B.R.Brown等人制作了计算全息图，1968年L.B.Lesem等人又制作了相息图(Kinoform)计算全息元件效率低，且需离轴再现，相息图虽然同轴再现，但其元件的加工工艺却长期未能解决，因此研究进展缓慢，实用受限。20世纪80年代美国麻省理工学院林肯实验室Veldlcamp首先提出的概念。 的概念一经提出，就得到了许多发达国家的重视而迅速发展起来；因为技术同时可以解决衍射元件的效率和加工问题是光学与微电子学相互渗透与交叉的前沿学科。 对现代光学技术的影响随着系统轻量化小型化的要求需要用重量轻、尺寸小的光学器件来替代因此研究元件在光学领域具有较好的发展。 60年代末期，Lesem等人提出了相息图的方法。相息图将光波的位相信息以表面浮雕形式记录在胶片上。它象菲涅耳透镜那样，通过改变自身的光学厚度去改变照射光波的位相或波前分布。相息图的突出特点是衍射效率可以达到100%。时隔不久出现了相息透镜。从那时起，人们开展了各种表面浮雕结构制造技术的尝试。20世纪80由于计算机辅助设计、超大规模集成电路光刻和干法刻蚀工艺等方面工作取得的进展，为衍射光学的发展提供了技术支撑，也激起了科学家对衍射光学的研究兴趣。美国麻省理工学院林肯实验室采用二元光刻掩膜技术用一系列的台阶形状来近似所要求的表面轮廓，首先制造出来表面质量很高，成像性能良好的衍射成像光学元件，称之为元件。这样，这个术语受到了光学领域及相关领域的研究人员和工程技术人员的高度重视。这标志着衍射成像光学元件的制造技术基本上进入了成熟阶段。 1.2 国内外研究现状 80年代中期，美国MIT林肯实验室威尔得坎普（Veldkamp）领导的研究组在设计新型传感系统中，率先提出的概念，他当时描述到：现在光学有一个分支，它几乎完全不同于制作方式，这就是衍射光学，其光学元件的表面带有浮雕结构；由于使用了本来是制作集成电路的生产方法