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IC 可调电阻设计报告 姓名： 学号： 班级： 中国计量大学 2016年3月2号 一．器件工作原理 电阻的工作原理：电流中充满了具有动能的电子。电阻的工作原理是吸收部分能量并把能量传送到别处。当电子进入电阻的一端时，它们中的一部分将与里面的原子发生碰撞，把它们的部分能量传送到原子震动中去。这些震动依此进行，并将它们的能量传送到邻近空气中的分子或散热装置。电阻中的碰撞的总效应导致电流减小，能量降低。 由于电阻的大小和电阻的长短有关，我们可以在ic电阻上设计多个接线孔，利用不用长度的电阻既可以得到不同大小的电阻，通过不用的接线孔运用大小不一的电阻，即为可选择性大小电阻，可限变化电阻。 二.器件设计 2.1 工艺设计 掺杂工艺：1.扩散。替位式扩散，间隙式扩散 2.离子注入：用能量为100keV量级的离子束入射到材料中去，与材料中的原子或分子将发生一系列物理的和化学的相互作用，入射离子逐渐损失能量，最后停留在材料中，并引起材料表面成分、结构和性能发生变化，从而优化材料表面性能，或获得某些新的优异性能 炉退火 快速退火：脉冲激光法、扫描电子束、连续波激光、非相关 宽带频光源(如卤光灯、电弧灯、石墨加热器、红外设备等) 氧化工艺：制备二氧化硅层，热氧化制备 化学汽相淀积(Chemical Vapor Deposition)：通过气态物质的化学反应在衬底上淀积一层薄膜材料的过程 图形转换： 光刻：接触光刻、接近光刻、投影光刻、电子束光刻 刻蚀：干法刻蚀、湿法刻蚀 制膜： 氧化：干氧氧化、湿氧氧化等 CVD：APCVD、LPCVD、PECVD PVD：蒸发、溅射 2.2 版图设计 全幅版图大小尺寸为32um*31um 所有正刻版采用正胶光照版图区域 反刻板反之采用正胶光照非画图版图区域 既可以得到指定形状的接线孔与反刻的接线孔 三．器件版图 3.1 版图说明（图+数据+说明） 版图全貌 版图尺寸32um*31um L1 版为扩硼版 L2 版为可调最小电阻的引线孔版 L3 版为可调电阻为中值的引线孔版 L4 版为可调最大电阻的引线孔版 L5版为衬底电极的引线孔板 L6 版为可调最小电阻的反刻版 L7 版为可调电阻为中值的反刻版 L8 版为可调最大电阻的反刻版 以上8 块版各另需翻制一块，总计16块版 L1版为扩磷版 版图尺寸 32um*31um 内部版图尺寸长24um*宽16um 粗4um 有效面积：240平方微米 L2 版为可调最小电阻的引线孔版 版图尺寸 32um*31um（由3个3um*3um的方块组成）有效面积27平方微米 L3 版为可调电阻为中值的引线孔版 版图尺寸 32um*31um（由3个3um*3um的方块组成）有效面积27平方微米 L4 版为可调最大电阻的引线孔版 版图尺寸 32um*31um（由3个3um*3um的方块组成）有效面积27平方微米 L5版为衬底电极的引线孔板 版图尺寸 32um*31um（由1个4um*4um的方块组成）有效面积16平方微米 L6 版为可调最小电阻的反刻版 版图尺寸 32um*31um（由3个4um*4um的方块组成）有效面积48平方微米 L7 版为可调电阻为中值的反刻版 版图尺寸 32um*31um（由3个4um*4um的方块组成）有效面积48平方微米 L8 版为可调最大电阻的反刻版 版图尺寸 32um*31um（由3个4um*4um的方块组成）有效面积48平方微米 3.2 制版说明 版图总尺寸为32um*31um，接触点采用铜铝合金，节深2um，以P型硅为衬底，使用L1版进行扩磷，用L5版进行扩硼，用L2.3.4分别刻出最小，中值，最大电阻接线板，用L6.7.8分别刻出最小，中值，最大电阻接线板的反刻板， L1:L1-CXY扩磷版。采用正胶，有色区域的玻璃板有光透过 L2:L2-CXY可调最小电阻的引线孔版。采用正胶，有色的区域有光透过。 L3:L3-CXY可调电阻为中值的引线孔版。用正胶，有色的区域有光透过。 L4:L4-CXY可调最大电阻的引线孔版。采用正胶，有色的区域有光透过。 L5:L5-CXY 衬底电极的引线孔板。采用正胶，有色的区域有光透过。 L6:L6-CXY 可调最小电阻的反刻版。采用正胶，无色的区域有光透过。 L7:L7-CXY 可调电阻为中值的反刻版。采用正胶，无色的区域有光透过。 L8:L8-CXY 可调最大电阻的反刻版。采用正胶，无色的区域有光透过。 制版日期：20**年**月**日 四．器件工艺 4.1 工艺流程图 1.原始P衬底 2.热氧化加双层二氧