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Q/A THANKS * Introduction to CF(Color Filter) Agenda Color Filter结构及技术要求 Color Filter制程 BM（Black Matrix) RGB ITO Color Filter可靠性评价 Color Filter发展趋势 黑白 彩色 Color Filter作用 放大15倍 放大50倍 肉眼所见 Color Filter结构及技术要求 CF 彩色滤光片 CF在TFT-LCD中的位置 普通CF剖面图 Glass Substrate (0.5 mm) BM Film (~1 μm) ITO Film (~ 0.15 μm) R G B G B R Color Resist (1.2~2μm) Color Filter结构及技术要求 LCD特性 Color Filter相关特性 Color Filter检讨项目 色再现性 色纯度 颜料选定，加工及分散性改良 亮度 透光率 颜料选定，加工及分散性改良 以BM细线化以提高开口率 各材料透射率最佳化 对比度 对比度 颜料分散性改良改善消偏性 BM遮光性改良及低反射率化 高解析度 尺寸精度 BM及色材膜高精细化化(曝光制程) 色不均(Mura), 缺陷 色不均(Mura) 平坦化涂布特性之改良 无析出成分污染液晶 表面粗糙度 顏料分散性改良 可靠性 密著性 可靠性 下层膜与后工程材料密着性、耐热性, 耐光性, 耐化学药品性改良 Color Filter特性要求 Color Filter结构及技术要求 BM层 功能 防止彩色光阻（R、G、B）混色 提升LCD对比 对TFT元件遮光保护 特性要求 遮光性强 (光学密度OD 3.5) 反射率低 ( 4%, l=550nm) 与玻璃/ITO的附着性好 膜层材料 金属Cr (Cr, CrOx/CrNy/Cr) 黑色树脂 (Resin) （无电解电镀）镍 石墨 各种BM反射率比较 Color Filter结构及技术要求 注：◎佳 ○可 △劣 Color Filter结构及技术要求 高透过率 RGB层 高色纯度 △R,G,B : NTSC EBU ≒ CRT TFT-LCD NTSC：National Television System Committee EBU: European Broadcast Union NTSC Ratio = △ Area / △ Area Color Filter结构及技术要求 彩色滤光片色度特性与膜厚关系 Notebook Monitor Thick Thin RD Target Standard NTSC High Trans High Purity TV Color Filter结构及技术要求 ITO层90 wt. % In2O3-10 wt.% SnO2 透明、导电 ※低面电阻 一般规格：﹤30Ω/□ ※高透过率 ≧ 92% (550 nm, glass reference) ※一定膜厚 1500?±150? ※适当的力/热/化学稳定性以利后续LCD制程 Color Filter制程 Color Filter制程 Color Filter Output Black Matrix R sub-pixel G sub-pixel B sub-pixel ITO Sputtering BM negative resist coating Prebake, Dosing, Developing, Post-baking. R Negative resist Coating, Prebake, Dosing, Developing, Post-baking. G Negative resist Coating, Prebake, Dosing, Developing, Post-baking. B Negative resist Coating, Prebake, Dosing, Developing, Post-baking. Cutting Final Inspection Bare glass 注：◎佳 ○可 △劣 Color Filter制程 几种RGB形成方法比较 Color Filter制程 颜料分散法 — ( TOPPAN,