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模拟电子技术 第二章 半导体器件基础.ppt

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模拟电子技术 第二章 半导体器件基础

附录 1.与双极型三极管相同 第三位字母 J 代表结型场效应管,O 代表绝缘栅型场效应管。 第二位字母代表材料,D是P型硅N沟 道;C是N型硅P沟道。 例如3DJ6D是结型N沟道场效应三极管,3DO6C是绝缘栅型N沟道场效应三极管。 CS代表场效应管,××以数字代表型号的序号,#用字母代表同一型号中的不同规格。 例如CS14A、CS45G等。 场效应三极管的型号现行有两种命名方法: 2.第二种命名方法是CS××#: 小 结 1. 场效应管种类很多,主要有结型和绝缘栅场效应管。 结型有N沟道和P沟道两种, 栅源必须加反偏压才能工作,如N沟道在UGS0下工作, P沟道在UGS0下工作。 绝缘栅场效应管有N沟道增强型、 N沟道耗尽型、 P沟道增强型、P沟道耗尽型四种类型。增强型不存在原始导电沟道,UGS只在单一极性或正或负工作;而耗尽型存在原始沟道,UGS可正可负。 2. 场效应管是单极型电压控制器件,具有输入电阻高,一 般可达109?。 填空: 1.场效应管是_______控制器件,而双极型三极管是_______控制器件。绝缘栅型场效应管输入电阻很大,是因为____________的原因。 答:电压,电流,栅极绝缘。 选择填空: 1.下图所示的特性属于那种管型?( )。 A.MOS增强型N沟道;MOS耗尽型P沟道;JFET N沟道 B. JFET N沟道; MOS增强型P沟道; MOS耗尽型N沟道; C. MOS耗尽型P沟道; MOS增强型N沟道; JFET N沟道. D. MOS耗尽型P沟道; JFET P沟道;MOS增强型N沟道 C 第二章结束 * * * * * 一、场效应管概述 根据结构场效应管的分类 结型场效应管JFET MOS型场效应管 场效应管(Field Effect Transistor,FET):是仅由一种载流子参与导电的半导体器件,是以输入电压控制输出电流的的半导体器件。也称为单极型晶体管。 结型场效应管:Junction Field Effect Transistor, JFET MOS型场效应管:Metal Oxide Semiconductor FET,MOSFET 根据载流子场效应管的分类 N沟道FET:电子作为载流子 P沟道FET:空穴作为载流子 一、场效应管概述(续) 场效应管与晶体管的区别 1. 晶体管是电流控制元件;场效应管是电压控制元件。 2. 晶体管参与导电的是电子—空穴,因此称其为双极型器件; 场效应管是电压控制元件,参与导电的只有一种载流子, 因此称其为单极型器件。 3. 晶体管的输入电阻较低,一般102~104?; 场效应管的输入电阻高,可达109~1014?。 4.其他:FET体积小、重量轻、寿命长、热稳定、更便于集成、易受静电影响。 MOS场效应管 N沟道增强型的MOS管 P沟道增强型的MOS管 N沟道耗尽型的MOS管 P沟道耗尽型的MOS管 MOS场效应管分类 二、MOS场效应管 ? N沟道增强型MOS场效应管结构 漏极D→集电极C 源极S→发射极E 栅极G→基极B 衬底B 电极—金属 绝缘层—氧化物 基体—半导体 因此称之为MOS管 1.增强型MOS场效应管 栅极G→基极B 源极S→发射极E 漏极D→集电极C (1)当UGS=0V时,漏源之间相当两个背靠背的PN结,无论UDS之间加上电压不会在D、S间形成电流ID,即ID≈0. (2)当0UGSUGS,th时,虽然在P型衬底表面形成一层耗尽层,但负离子不能导电。 (3)当UGS=UGS,th时, 在P型衬底表面形成一层电子层,形成N型导电沟道,在UDS的作用下形成ID。 (4)当UGSUGS,th时, 导电沟道逐渐加厚, 沟道电阻减少,在相同UDS的作用下,ID将进一步增加。 ? N沟道增强型MOS场效应管工作原理 UDS ID + + - - + + - - + + + + - - - - UGS 反型层 说明:开始无导电沟道,当在UGS?UGS,th时才形成沟道, 这种类型的管子称为增强型MOS管。 栅极G→基极B 源极S→发射极E 漏极D→集电极C ? N沟道增强型MOS场效应管特性曲线 增强型MOS管 定义:UDS一定时,UGS对漏极电流ID的控制关系曲线 ID=f(UGS)?UDS=C 转移特性曲线 UDSUGS-UT UGS(V) ID(mA) UGS,th 在恒流区,ID与UGS的关系为 ID≈K(UGS-UGS,th)2 K为导电因子。 UGS,th称为开启电压或阈值电压。 ID≈K(UGS-UGS,th)2(1+?UDS) 其中: K—导电因子(mA/V2) ?—沟道调制长

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