退火处理对LaAlO3薄膜结构和发光特性的影响Effect of annealing treatment on the structure and luminescence properties of LaAlO3 thin films.pdfVIP

退火处理对LaAl03薄膜结构和发光特性的影响 和(111)的特征峰，表明样品开始由非晶向晶体结构转变。同时，XRD谱中2口衍射角在20％300 范围内出现几个小的衍射峰，分析认为是灿203的特征峰。 ，一’ 穹 8 各 ‘窃 口 卫 与 20／(degree) 图3．6taAl03溥膜经9500C退火处理后的XRD图 火处理样品的XRD谱，各衍射峰的强度明显增大。表明薄膜结晶状况良好，特别是最强峰(111) 在空气中高温退火使得薄膜中砧20，的含量有所增加。 如何得到高质量LaAIO，薄膜一直是研究中的重要课题，通过改进薄膜生长工艺，特别是对 薄膜的后退火处理，可以较大幅度的调整或改善薄膜的性能和结晶状况。为了便于比较退火处 理对样品结构性能的影响，将退火前后薄膜样品的XRD图放在一张图中进行对比，如图3．7所 的晶化，但是薄膜的结构仍然是以非晶态为主，薄膜结晶性较差，只存在少量的微小晶粒。 退火处理对LaAl03薄膜结构和发光特性的影响 3．3AFM结果与分析 3．3．1 LaAl03薄膜二维及三维表面形貌 图3．8所示为采用射频磁控溅射法制备的LaAl03薄膜样品的二维及三维AFM图，扫描面积为 明显缺陷存在，没有发现晶粒的形成。薄膜样品三维AFM图，表面出现部分少量由于溅射作用 而形成的柱状突起，该突起z轴的高度仅为20-30rim。根据坐标尺寸的比例关系判断这些柱状突 起实际上是一些比较平缓的突起包。 F 图3．8(a)未退火处理LaAl03薄膜的二维AFM图 ◆ 图3．8(b)未退火处理LaAl03薄膜的三维AFM图 30 退火处理对LaAl03薄膜结构和发光特性的影响 从二维AFM图可以发现，经8000C退火后薄膜表面依然保持平滑状态，有少量的颗粒状聚集体 出现，无明显的晶粒形成。同样，从三维删图3．9(b)看出整个La砧03薄膜表面平整、光滑， 测试结果相一致，表现出该薄膜具有良好的热稳定性。 以均方根粗糙度(RDot 至O．52nm。可能是h～0，薄膜在溅射过程中产生的各种应力在退火过程中得到释放而引起。 E 图3．10(a)h6L103薄膜经90们退火处理后二维AFM图 ● 图3．10(b)LaAlO，薄膜经9000C退火处理后三维AFM图 32