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[]第09章 卤代烃

卤代烷烃和卤代环烷烃 卤代烷的结构参数 卤代烷和烷烃沸点的比较 卤代烷的偶极-偶极作用 卤代烷的制备-烷烃卤代 卤代烷的制备-烯烃的加成 卤代烷的制备-醇的反应 卤代烷的制备-醇和HX的反应 卤代烷的反应-格氏试剂的生成 格氏试剂生成实例 格氏试剂的反应 卤代烷的亲核取代反应 SN2反应-卤代烷的水解 SN2反应的立体化学 瓦尔登转换与构型 Kenyon and Phillips Experiment in 1920s 溴甲烷(CH3Br)的SN2反应 影响SN2反应的因素-空间效应 卤代烃SN2反应的活性 影响SN2反应的因素-亲核试剂的亲核性 影响SN2反应的因素-离去基团的稳定性 影响SN2反应的因素-溶剂效应 影响SN2反应的因素-溶剂效应 SN1反应-卤代烷的溶剂分解反应 SN1反应的机理 SN1反应的立体化学 外消旋化与部分外消旋化 影响SN1反应的因素-底物的结构 影响SN1反应的因素-离去基团的稳定性 影响SN1反应的因素-亲核试剂的亲核性 影响SN1反应的因素-溶剂效应 溶剂与碳正离子的稳定性 卤代烷的消除反应 查依采夫规则 二卤代烷的消除-炔烃的生成 E2反应的机理 E2反应的立体化学 E1反应的机理 消除和取代的竞争反应 小结:消除与取代 消除与取代-伯卤代烷 消除与取代-仲卤代烷 消除与取代-叔卤代烷 卤代烯烃 卤代烯烃的分类 氯 乙 烯 乙烯、氯乙烯和氯乙烷的键参数比较 烯丙基氯 卤代芳烃 氯苯的偶极矩 氯苯的取代 氯苯被氨基取代的机理:消除-加成反应 苯炔中间体的结构 氯苯甲烷 大气中氧(O2)的防辐射作用 大气中的臭氧(O3) 氟里昂对臭氧层的破坏 质子性溶剂可以有效地增加碳正离子的稳定性,有利于SN1反应的进行 E: Elemination(消除) E1: Unimolecular(单分子) Rate = k[R–X] E2: Bimolecular(双分子) Rate = k[R–X][B:–] (取代) (消除) 81% 19% 30% 70% 卤代烷在消除时,卤素和含氢较少碳上的氢结合生成的烯烃为主产物 64% 36% E1和SN1的竞争反应 E2和SN2的竞争反应 HMPA: Hexamethylphosphoramide Phosphoric acid 反-3-甲基-4-氯-3-己烯 3-氯-6-溴-1-环己烯 3-溴-1-丙烯 (烯丙基溴) 孤立型卤代烯 乙烯型卤代烯 烯丙型卤代烯 ? = 1.45D 0.138nm 0.172nm 0.178nm ? = 2.05D 0.133nm ? = 0D 乙烯型卤代烯烃是最不活泼的一类卤代烯烃 烯丙型卤代烯烃是最活泼的一类卤代烯烃 苯氯甲烷 3-(4-氯苯基)戊烷 氯苯 3-苯基-1-氯丁烷 对氯苯氯甲烷 ? = 1.67D ? = 2.05D 氯苯型卤代芳烃是最不活泼的卤代芳烃 反应不可能通过SN1或SN2的机理进行 反应经历了苯炔中间体 同位素标记 证明了苯炔的存在 * 2-氯丙烷 (异丙基氯) 氯代环戊烷 (环戊基氯) 3-甲基-2-氯-4-溴戊烷 反-1-甲基-2-溴环己烷 ?+ ?– 68.7 86 CH3CH2CH2CH2CH2CH3 46.6 78.5 CH3CH2CH2Cl 36.1 72 CH3CH2CH2CH2CH3 ?37.7 48 CH3CH2F ?42.1 44 CH3CH2CH3 ?78.4 34 CH3F ?88.6 30 CH3CH3 沸点(°C) 分子量 化合物 ?– ?+ ?– ?+ ?+ ?– h? 43% 57% 64% 36% h? 亚硫酰氯 (Thionyl chloride) 亚硫酸 (Sulphurous acid) 进攻基团 底物 离去基团 产物 SN: Substitution(取代) Nucleophilic(亲核) SN1: Unimolecular(单分子) Rate = k[R–Y] SN2: Bimolecular(双分子) Rate = k[Nu:–][R–Y] 瓦尔登转换(Walden Inversion) 四面体结构 平面结构 四面体结构 (R) (S) TosCl 亲核试剂 产物 亲核试剂 产物 空间位阻小的卤代烷容易发生SN2反应 同一周期的亲核试剂亲核性和碱性一致 同一主族的亲核试剂亲核性和碱性相反 H2O, NH3 and CH3OH are good leaving groups 质子性溶剂可以使亲核试剂溶剂化,降低了亲核试剂的反应活性,是SN2反应最差的一类溶剂。 Dimethylformamide DMF(μ=3.82D) Dimethylsulfoxide DMSO (μ=3.96D) Hexamethylphosphora

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