线上制程管制区分为两个部份.pptVIP

博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 Stationary process disturbance ARMA(1,1) 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 Summary of AMSE 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 Implementation of Virtual Metrology (VM) 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 Concluding Remarks 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 Thanks for your attention * 線上製程管制區分為兩個部份 1.是 SPC統計製程控制 2.是EPC工程製程管制 ＳＰＣ主要是利用管制圖來監控製程是否有異常現象，如果超出管制界限時， 系統會產生一個alarm，此時，必須停機檢查，找出異常的原因。 ㄧ般ＳＰＣ多用於離散型的生產製程。如零件工廠 而 ＥＰＣ的概念如下面的流程圖： 　投入變數x_t經過ㄧ個製程 後，加上製程的干擾項，產生 Y_t，利用產出值Ｙ＿t與目標值tau的偏差，經過控制器去調整下ㄧ期投入變數的設定值。　 通常ＥＰＣ多用在連續的生產製程。化工的生產製程 　 * 此時強調----? 實際 IC 產業生產特性－「多樣少量」 * Department of Statistics and Informatics Science Providence University 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 Performance Analysis of EWMA Controllers Subject to Metrology Delay Chien-Hua Lin Department of Statistics and Informatics Science Providence University April. 7, 2009 This talk works with Ming-Feng Wu, Prof. David Shan-Hill Wong, Prof. Shi-Shang Jang and Prof. Sheng-Tsaing Tseng 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 Outline Introduction of Semi-conductor Manufacturing Processes Introduction of Run-to-Run (R2R) Process Control Literature Reviews for EWMA controller Motivating Example Formulation Main Results Concluding Remarks 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 Integrated Circuit (IC) Fabrication 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 IC Process 1. 2. 3. 4. CMP Etch Step1 Step2 Deposition 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 Chamber of CMP Process Input variables platen speed carrier Speed backside air pressure polish time Output variables removal rate within wafer non-uniformity 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 Depth carrier endpoint CMP clean CMP Process 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 On-line process control On-line Process Control SPC UCL LCL CL EPC Discrete part manufacturing Continuous part manufacturing Process Feedback Control Input Disturbance Output 博学之，审问之，慎寺之，明辩之，笃行之。精心整理，欢迎收藏 The reasons why SPC or EPC is not enough for monitoring I