二硫化钼润滑膜的溅射：原理、具体操作、局限性.docxVIP

附录A附录B二硫化钼润滑膜的溅射：原理、具体操作、局限性T.Spalvins本文综述了当前溅射实践、它的局限性和对于二硫化钼喷溅成膜的理解。当用于真空或干燥的环境中时喷溅的二硫化钼薄膜能展示非凡的摩擦学性能如超低摩擦系数(0.01)和超长的磨损周期(百万周期)，为了实现这些良好的摩擦学特性，沉淀期间的喷溅条件必须依靠足够的膜衣服、适当的膜结构（形态学）和适当的膜成分来实现。介绍二硫化膜的喷溅成膜显示了非凡的摩擦特性，摩擦系数可以达到0.01或更小，这对于固体润滑剂来说这代表了一个非同寻常的低系数摩擦。例如，大多数的固体润滑膜像一些软金属（金、银、铂）和聚四氟乙烯的摩擦系数分别是0.1和0.05。在自然界中，摩擦系数0.025就类似于冰的熔点0度。因此，在理想的操作条件下，被优化的喷溅而成的二硫化钼薄膜在现在已知的固体润滑材料中的最低摩擦系数。例如在真空环境下（比如太空中），喷溅而成的二硫化钼薄膜显示出超低的摩擦特性，但在潮湿的环境中，摩擦特性就会退化。由于这些原因，二硫化钼喷射成膜主要用于航天器和卫星的移动组件（太阳能阵列驱动器、天线指示器和控制系统、消自旋机制、齿条和齿轮啮合），这些机件主要在高真空、高温或低温和空间辐射条件下工作。这些润滑膜也用于地面真空系统，这些系统有房屋表面分析仪器、薄膜沉积设备和和需要真空室的相关仪器。如今一个常见的沉积技术就是溅射，以薄、均匀的溅射膜很适合于机密仪器的组件。它也可应用于剪裁结构/形态和薄膜的化学特性。二硫化钼溅射膜的摩擦性能非常依赖于溅射条件，转而影响薄膜的微观组织性能，比如结晶度、形貌和成分[1-4]。这个综述的目的是为了描述二硫化钼溅射膜加工工艺-属性-性能的相互关系。固体润滑膜的溅射原理固体润滑薄膜的概念遵循此原理；如果一个低剪切强度的材料被放在相互接触的滑动面之间，滑动摩擦力就会减小。滑动摩擦力F与润滑面的剪切力S和接触面的面积A有关，因此F=A.S,根据图一，摩擦系数ｕ与润滑面的剪切力、接触面面积和载荷W有关，μ=SW/A,如果摩擦系数想要小，S和A要取较小值，S是摩擦面的固有属性，A取决于接触材料（轴承）的变形程度,也就是硬度或弹性模数的基底。它服从公式：μ=S.W/A，而W/A=p,p是接触压力，因此，μ=S/p，若果接触面承受弹性变形，这种情况下归于承载技术，负载大小有赫兹压力决定，PH,PH3∝W,因此摩擦系数μ可以表示为式子μ=S/PH∝S/W(1/3).根据上面的关系，摩擦系数，μ，对于弹性负载的接触面数值应减小，而负载的数值增加。如果薄膜是薄的，就是在二硫化钼溅射成膜的情况下，负载由基地承受，对于一个给定的负载，增加基底模数，降低接触面面积，如图2所示[5],对于一个低摩擦系数和可接受的摩擦表面，理想的薄膜厚度介于0.2um-0.6um之间。二硫化钼的晶体结构二硫化钼（天然辉钼矿）独特的特性就是高度各向异性的晶体层结构，它是由“三明治”层组成，每一层包括一个平面的钼原子，钼原子介于两层硫原子之间，且位于六角形阵列中。如图3所示;层与层之间是靠范德华力连接在一起，然而层内的钼和硫原子是靠共价键连接在一起的，因此共价键赋予二硫化钼层很强的负载能力，然而层与层之间的弱剪切力能够在低剪切力的作用下是晶体沿[0001]方向滑移，此方向平行于基底层，在基地方向低的剪切力有助于较小的摩擦系数和较好的摩擦性能，此外,二硫化钼层结构可以表现出两种类型的微晶取向——基底平面平行或垂直于衬底,如图4所示，基地平面当平行于衬底时，表现出最低的剪切力和摩擦力。选择合适的建设条件通过改变溅射条件如射频功率和氩气压力、不同的化学计量法、密度、形态、附着力会生产出MoSx固体润滑膜，因此溅射生成的MoSx膜表现出不同的摩擦性能。因此对于每个特定的溅射系统决定出能够生产最优溅射膜溅射条件是至关重要的。例如用MRC8667射频磁控溅射系统溅射值从5-50毫托不等，射频功率也从150W-1000W不等，生产出所需的膜密度、形态和附着力需要氩气的压力值是20毫托、射频功率为900W。在真空条件下的销对盘摩擦机上这些优化的薄膜显示出较低的摩擦系数（0.01-0.04）。二硫化钼溅射膜的特性因为非常薄（0.2-0.6um）二硫化钼润滑膜经常用于摩擦的操纵装置，理解溅射条件和与之相对应的薄膜性能、摩擦磨损行为之间的关系是非常重要的，为了获得超低摩擦系数的二硫化莫溅射膜，了解二硫化钼微观结构的依附性、结构以及化学成分是如何影响摩擦磨损行为相当关键。5.1依附性和接触面的改性固体润滑膜粘附力很强是实现耐久生命力的关键，因此在镀膜之前衬底表面的制备对附着力的大小有很大影响。在某种程度上，它还会影响膜的形核和长大特性，这就决定了柱状膜结构的紧实密度，在沉积之前，最常用的表面预处理是溅射刻蚀法清洗，这是靠在特定时间