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激光加工形成硅基上的氧化低维纳米结构的犘犔发光
第 卷 第 期 半 导 体 学 报
29 1 犞狅犾.29 犖狅.1
年 月 ,
2008 1 犑犗犝犚犖犃犔犗犉犛犈犕犐犆犗犖犇犝犆犜犗犚犛 犑犪狀.2008
激光加工形成硅基上的氧化低维纳米结构的 发光
犘犔
,
1 1 1 1 1 2 2 1
黄伟其 吴克跃 许 丽 王海旭 金 峰 刘世荣 秦朝建 秦水介
( 贵州大学贵州光电子技术与应用重点实验室,贵阳 )
1 550025
( 中国科学院地球化学研究所,贵阳 )
2 550003
摘要:用激光辐照硅样品和硅锗合金样品能够形成多种氧化低维纳米结构,可以用激光与半导体相互作用产生的等离子
体波模型来解释这些结构的形成机理 其中,在单晶硅上形成的网孔壁结构有很强的 波长的光致发光( )峰,在硅
. 706狀犿 犘犔
锗合金上形成的多孔状结构于波长为 处有极强的 峰,在硅锗合金上形成的条形片状结构分别在波长为
725狀犿 犘犔 760狀犿
和 处也有较强的 峰;这些结构表面都覆盖有氧化硅层,在硅锗合金上的氧化硅层中镶嵌有纳米锗晶团簇,并用
866狀犿 犘犔
相应的模型解释了这些氧化低维纳米结构的强光致发光效应.
关键词:氧化低维纳米结构;等离子体波;光致发光
: ;
犘犃犆犆 7280犈 7860犉
中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( )
犙4711 犃 02534177200801011607
用激光诱导能生成镶嵌于层中的纳米硅或锗的量子团
引言 簇 总之,用激光辐照手段来构造氧化低维结构有独特
1 .
的优越性.
硅与锗的材料在信息产业中的微电子工程里有很 本文选择用激光辐照的方法在单晶硅样品和锗硅
好的基础与应用,硅和锗的器件
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