电子束蒸镀机-台北科技大学.PDF

2010台北科技大學先進製程實驗室工作坊 電子束蒸鍍機的原理與應用 郭 倩 丞博士 國立中央大學薄膜技術中心 / 光電科學與工程學系 Department of Optics and Photonics, National Central University 生活中的光學薄膜 眼鏡 相機 螢幕 投影機 顯微鏡  望遠鏡  光纖通訊 雷射  干涉儀 Department of Optics and Photonics, National Central University Department of Optics and Photonics, National Central University 簡介  生活中的光學薄膜 坩鍋的型式  物理沉積法  蒸鍍系統參數  平均自由路徑  光學監控系統 熱蒸發蒸鍍法 膜厚監控系統 電子束的產生 影響均勻性的原因 電子束的加速 電子束蒸鍍的應用 Department of Optics and Photonics, National Central University 物理沉積法（Physical Vapor Deposition ） 其成膜過程可分為三步驟，在這三步驟過程中都可 能有化學變化或物理碰撞而影響膜的 特性、純度及 均勻性: (1)將薄膜材料由固體變成氣態 (2) 薄膜的氣態原子或分子或離子穿過真空抵達基 板表面 (3) 薄膜材料沈積在基板上漸漸形成薄膜 Department of Optics and Photonics, National Central University 平均自由路徑 平均自由路徑”L”是指氣體粒子在真空中飛馳經過 “ 此距離”後才會碰到其它粒子的距離 。 kT L 2  2D P 式中k為Boltzmann常數 ，D為分子直徑 ，T為絕對溫 度 ，P為氣體壓力 。 Department of Optics and Photonics, National Central University 假設環境為空氣 ，空氣分子直徑約0.372nm ，則在室 溫時(300 。K) ，L與抽真空後之真空腔內的氣壓之關 係為 -3 L ≈0.65/ P(Pa)或 L ≈5*10 /P(torr) ，單位為 cm 3 (1Pa  7.510 torr) 一般蒸發源到基板的距離大約在30到50cm 以上，因 -2 此P值必須小於 10 Pa 。 Department of Optics and Photonics, National Central University 熱蒸發蒸鍍法 利用升高薄膜材料之溫度使其熔解然後氣化或是由( 固體昇華為氣體 ) ，氣態薄膜材料之原子或分子因具 有加溫後之動能 ，至基板