真空科学和等离子体.PDF

第 10 章 真空科学和等离子体 第第 1100 章章 真真空空科科学学和和等等离离子子体体 第 10 章 真空科学和等离子体 第第 1100 章章 真真空空科科学学和和等等离离子子体体 前面讨论过的扩散、氧化和光学光刻是在常压下进行的， 而离子注入、非光学光刻以及后面要讨论的许多工艺如干法刻 蚀、物理淀积、化学汽相淀积等则需要在真空室中进行，有的 还要涉及到等离子体和辉光放电的理论和技术。 10.1 1100..11 气体动力学理论 10.1 气体动力学理论 1100..11 气体分子热运动速度的大小的平均值 8kT c  m 气体分子热运动速度在三个方向上的分量的大小的平均值 2kT v  v  v  x y z m 气体分子热运动速度的均方值 2 3kT v  m v 240 m/s 例如氮气分子在室温下的 约为 。 224400 mm//ss x 气体分子在两次碰撞之间的平均距离，即 平均自由程 平均自由程 1 kT   2 2 2d n 2d p d n 式中， 代表分子直径， 代表单位体积内的分子数。 dd nn 单位时间内撞击单位面积的气体分子的数目 2 2 n n kT p J  v   n 2 x