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铋膜修饰玻碳电极用于线性扫描溶出伏安法测定铝箔中痕量镓
铋膜修饰玻碳电极用于线性扫描溶出伏安法
测定铝箔中痕量镓
匡云飞,邹建陵,冯泳兰,邓培红,凌爱华,李 薇,杨颖群,刘梦琴,屈景年
(衡阳师范学院化学与材料科学系,衡阳421008)
摘 要:用电化学沉积法将铋离子修饰在玻碳电极上,应用此铋膜修饰玻碳电极测定镓时,将试
液在 的六次甲基四胺 盐酸缓冲溶液中在 处预还原 ,然后在
pH5.4 -1.30V 40s -1.30~
-0.50V范围内扫描,使镓离子从修饰电极上溶出,实现了镓离子的溶出伏安法测定,在-1.01V
-1
处可得镓离子的氧化峰电位,镓的质量浓度在 · 范围内与其峰电流值呈线性
0.0028 0.21 L
~ μg
-1
关系,方法的检出限( / )为 · 。方法用于测定铝箔中镓的含量,加标回收率在
3犛犖 0.7n L
g
98.2% 103.8%之间。
~
关键词:铋膜修饰玻碳电极;线性扫描溶出伏安法;铝箔;镓
中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( )
O657.1 A 10014020201101001503
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