InP衬底表面的H_2N_2等离子体清洁技术.pdfVIP

　第 20 卷第 10 期 半　导　体　学　报 . 20, . 10 V o l N o 　1999 年 10 月 . , 1999 CH IN ESE JOU RNAL O F SEM ICONDU CTOR S O ct 衬底表面的 2 2 等离子体清洁技术 InP H N 谭满清　茅冬生 ( 中国科学院半导体研究所 光电子器件国家工程研究中心　北京　100083) 摘要　本文介绍了用电子回旋共振( ) 等离子体去除 衬底表面的氧、碳原子的方