表面与纳米技术手册438-4312 (自动保存的).docx

4.3.8叠纹法4.3.8.1 综述任何有两个周期结构或强度分布叠加的系统都可称为莫尔系统。莫尔这一名称可能来源于法国纺织行业，其意是指波浪或水的表面。莫尔条纹自中世纪起已经被用于丝绸业的质量控制。莫尔条纹可用来取代干涉法和全息术，并逐渐用作测量方式；但尚未在表面纹理测量上获得大的进展，制造宽度小于10微米的光栅极其困难。图4.182显示了相关原理。如果在两个完全相同的光栅之间有一个回转的失调，设为，它会产生一个很容易观察到的等距条纹，这些就是莫尔条纹。条纹的距离为公式中为光栅的原始距离（图4.183）。这个公式和获得的描述两个干扰平面波的模式相似。由于这个原因莫尔效应也经常被称为“机械干涉”。但是存在一个区别，在干涉中干涉项只包括光学路径的不同长度。图4.182：莫尔条纹由两个先后放置的周期结构生成图4.183：莫尔条纹由旋转失调生成。为条纹数，m、n为光栅条数，p为间距，为旋转角度莫尔纹的叠加，像声乐打击一样包含了两个部分，增强和减弱。莫尔条纹的总和近似为间距P的一半，以致于当使用密集的光栅（每毫米10对线条），眼睛不可能发现这些条纹。然而通常莫尔条纹很少被应用，它是与曾经使用的是不一样的条纹。条纹产生的条数与两个光栅的线条数有关。如果它们分别为m、n，则莫尔条纹数N可由此得到每一莫尔条纹的指数都是常数。莫尔条纹也可由间距的不匹配产生，但并非一角一个关系。莫尔条纹数量结果可给为这些间距不匹配的条纹有时候也称为游标条纹。有时，虽然光学系统无法解决两个光栅之一的间距，但是这会使更容易观察到莫尔条纹。光栅在莫尔条纹的应用中通常有一个1到100线条对每毫米的密度。在应用中条纹被投射到被测表面，任何形状上的失真或者表面形式都反映了投影条纹自身与理想形状的偏离。莫尔条纹的投影主要被用于一下三个方面：平面变形和表面应力的应变分析根据莫尔法所得的阴影和投射测定对象的轮廓或者测量表面相比原来位置的位移莫尔反射和莫尔偏析用于测量斜坡（除平面外）的变形或者测量由镜面反射或相位改变产生的波形失真4.3.8.2 应变测量在应变测量中，光栅通常放置在与表面接触处，方向沿假定变形方向。变形前光栅的节距P是给定的：变形后的表面会扭曲了光栅这个方程只给出了在y方向的位移，这是要使两光栅必须在x方向上旋转。4.3.8.3 莫尔等高超出平面需要三角测量技术；主要用于飞机测量形式或者低水平的漫反射表面。4.3.8.4 莫尔阴影在这里主光栅放置在如图4.184表面，然后光照射的角度（阴影区域可通过相同光栅的角度可见）显然在入射处有m条光束而在出射线处有光束）。因此莫尔条纹数设主光栅与表面的高度差为CE：和高灵敏度的。在此情况下高度差和莫尔条纹数存在线性关系。图4.184 莫尔阴影这种类型结构通常用于较小的物件。这种方法限制了光学的分辨能力，有可能导致边缘对比度降低。这可以控制表面一点不大于五个光栅的距离；另一个因素是“叶栅效应”,即对象之间的距离给出横向转移的表面点。这种效果是减少远心投影。衍射在高密度光栅中也是一个问题，再者，表面和光栅不能分开的太多。4.3.8.5 莫尔投影不像莫尔阴影，其主光栅是远离表面的。这里需要两个光栅：投射光栅和参考光栅。投射光栅可以是任何类型的，比如一个蚀刻玻璃和白光投射，也可以是一个迈克尔逊干涉图样。然而图像都是投射到表面的。在对象上的投影,其中m是引入的任何放大投影（图4.185）。在这个方法中，条纹是在相机前通过的参考光栅查看变形对象的边缘获得的。如果扭曲光栅表面上每对线毫米的灵敏高度是，则有严格的线性关系。通常这一技术的最佳分辨率是每毫米100对线。另一个可进行改变，不使用主参考光栅，在相机的CCD阵列中使用列作为参考。这种方法相对成本上便宜，但是观察者无法控制莫尔条纹密度N。这取决于CCD芯片制造商。以上概述的方法中，漫反射表面是必需的。在表面情况如镜子表面，可使用不同的策略。尽管方法中的表面有变形但可以当作镜面进行处理（图4.186）。图4.185 莫尔投射图4.186 莫尔法将表面当作镜面使用镜面反射与变形结合，往往在光栅表面上通过镀银反射镜和摄像头观察。此方法业可用类似方法替代，光栅表面上“之前和之后”的变化可以通过双脉冲全息术记录在影像中。4.3.8.6 概要莫尔技术一直沿用到现在，来评估相当粗糙表面的变形。此方法的典型光栅间隙为25，干涉和全息被视为粗扩展边缘的方法。此情况正在发生改变，间隙更小的光栅可以更好的解决光学和数字插值法的识别。4.3.9 全息摄影技术4.3.9.1 简介衍射光的相位这些重要概念可认为是Gabor提出的，而现在所谓的全息技术背后的思想在Gabor的基础上经过多年发展与电子显微镜分辨率极限结合在了一起。可以很方便的把全息作为一个单一的平面干涉仪。