金属溅镀及阴极电弧沉积的制程控制与薄膜品质.PDFVIP

業界電源輸出解決方案 用於反應式濺鍍、金屬濺鍍 及陰極電弧沉積的製程控 制與薄膜品質 用於反應式濺鍍、金屬濺鍍及陰極電弧沉積的製程 控制 使用現代 PVD 過程的主要優點是產生持久耐用的塗層並且可自訂薄膜特性。 從先進的 設備（如行動電話，太陽能電池板和平板電視）到更多的傳統產品 （如手錶及廚房用具） ® ，Advanced Energy 供產品效能，品種和價值，以滿足任何應用需求。 我們提供全面的直流、脈衝直流和低頻交流，它們的效能全部經過現場驗證，並提供對電 源輸送參數的獨特控制以及一系列選項，來最佳化您產品生命週期的成本。 Advanced ® Energy 在業界具有最全面的高效電源供應器組合，數十年的豐富經驗， 擁有在全球範 圍的龐大支援體系，從而可增強 PVD 過程控制及產品品質。 優點 精確的薄膜性能控制 從 AE 大量產品組合中選取最適合您薄膜性能及成本需求的電源供應器與配件。 使用嚴格的 • 精確的薄膜性能控制 效能參數、可自訂的電源輸送、精確的脈衝以及多層次的電弧管理，必要的工藝穩定性和控制 • 提高產量與薄膜品質 能夠建立自訂薄膜密度、均勻度、折射率、傳輸和形態。 • 節約成本 • 全球支援體系 ® ® 脈衝直流裝置（包括 Ascent DMS、Solvix by AE 和 Pinnacle Plus+ Series）可在提高沉積 特性 速率、薄膜平整度以及填充密度的同時，減少電弧放電。 Ascent DMS 裝置還提供了獨特的 電源輸送選項（包括可選擇的頻率）；功率、電流或電壓調節；獨立調節每個磁控管的功率比； • 全面的直流、脈衝直流及低頻 交流 以及單極性和雙極性操作。 • 一流的電弧管理 • 電弧同步化 Solvix by AE 偏壓裝置可對離子能量啟用高級控制，以提供更高精度的薄膜特性，如應力，填 充密度和植入程度。 • 脈衝同步化 • 設定點補償 ® • 單極性和雙極性脈衝 • 受控脈衝上升 • 電壓極性反接 • 高頻操作 ® • 偏壓與過程電源解決方案 ≠