绪论第1章金属固态相变概论
应变能 产生原因 (1)新/旧相比容不同(比容差应变能) (2)界面错配→新/旧相硬匹配(共格应变能) 例如:错配度↑→弹性应变能? 错配度↑↑→界面类型?弹性应变能? 共格界面应变能最大,非共格最小 比容差应变能与新相几何形状有关,球形应变能最大,针状居中,片状最小 3、影响界面类型的因素 比容差;界面能;应变能 过冷度大 临界晶核小、界面多→ 为降低界面能→形成 共格界面以降低界面能→ 减少相变阻力 为保证应变能最小→ 片状 过冷度小 临界晶核大、界面少→ 非共格界面 比容差小时,为减少界面→球状 比容差大时,为降低应变能 →片状 二、两相存在晶体学关系 惯习面 原因:新、旧相原子排列很接近,容易更好地匹配,降低界面能 液态结晶过程没有惯习面 用母相的晶面指数表示 取向关系 原因:由于惯习面的存在,必然使共格、半共格界面之间存在取向关系,非共格无此关系 特点:两相存在彼此保持平行关系的低指数晶面和晶向 三、晶体缺陷处形核 形核部位:优先在晶界、相界、空位、位错、层错处形核 原因 扩散激活能低、速度快,相变应力容易松弛 缺陷畸变能补充一部分形核功 利用缺陷的界面,减少总界面能 成分起伏容易(缺陷是溶质偏聚处) 形核功:晶界非均匀形核最容易,位错次之。 四、形成过渡相 过渡相:成分、结构或二者均处于新/旧相之间,能量高、热力学不稳定 原因:新/旧相成分、结合差异大,相变阻力大,形成过渡相缓解 在条件成熟时,过渡相必然转变为平衡相 五、原子扩散慢 §3形核 1)形核:大于临界晶核半径的晶核的形成过程。 形核率:单位时间和单位体积内形成的晶核数目,取决于临界晶核数目和原子在两相界面间的跃迁频率。 2)生长:新相与母相之间的相界面迁移过程。 扩散控制:存在原子长程扩散,扩散影响相变进程。 界面控制:存在原子界面附近短程扩散,相变速率取决于原子在界面处的可动性。 一、均匀形核 驱动力(体积自由能差),能量来自: 母相内部的能量起伏 依靠变形等因素引起的内应力提供 阻力(界面能、应变能) 应变能是固态相变新增加的一项阻力 形核条件:系统自由能变化△G0 △G=- △ gvV+ σS +EV 均匀形核 临界形核功△G*:1-2公式 由于比液态结晶多了应变能,所以△G*增大 形核率与凝固相似,1-3公式 由于原子扩散激活能和△G*大,均匀形核率比凝固时更难 二、非均匀形核 驱动力 体积自由能差 晶体缺陷和自由表面→释放能量 阻力 界面能 应变能 形核条件: △G 0 △G=- △ gvV - △Gd + σS +EV 临界形核能小(与均匀形核相比) 缺陷在形核时的作用 空位加速扩散;空位群组成位错 位错 新相在位错线 上形核→位错消失→畸变能释放 位错能够构成新相半共格界面中的一部分→补偿错配→应变能降低 溶质偏聚→接近新相成分(能量起伏) 扩散通道 形成分解位错→提高核胚位置 晶界:为降低界面能 ,非共格一侧界面→球冠状。半共格、共格一侧界面→平面 形核排序 自由表面>晶界或相界>层错>位错>空位>均匀形核(驱动力非常大时发生) §4晶核长大 一、新相长大机理 相变类型不同→新相长大机制不同 界面结构不同→新相长大机制不同 例如: 两相成分→不同→长程扩散→伴随传质过程 两相成分→相同→短程扩散或无扩散 1、半共格界面迁移 切变 大量原子有规则沿某一方向作小于一个原子间距的瞬时移动,并保持原有相邻关系不变→协同长大。 台阶长大 平界面:界面沿法向迁移困难 台阶面:可以通过台阶的侧向移动实现界面沿法向推进 2、非共格界面迁移 原子无邻近关系 原子移动无先后顺序 任何位置都可以接受和输出原子 微观区域可能存在台阶长大机制 扩散相变 二、新相长大速度(扩散相变) 1、无成分变化的新相长大 例如同素异构、再结晶、晶粒长大 实质是相界面附近原子短程扩散进行晶格改组,长大速度受界面扩散控制 长大速度取决于新/旧相原子相互进入的频率、势垒…… 长大速度1-7公式 △T很小→长大速度随温度降低而增大。 △T很大→长大速度随温度降低而降低。抛物线状规律 2、有成分变化的新相长大 界面附近存在浓度梯度 新相内部也存在溶质浓度梯度变化→扩散 溶质在新相中长程扩散,长大速度由扩散速度决定的,根据Fick第一定律计算 公式1-11:长大速度与扩散系数、界面处浓度梯度呈正比,与相界平衡时的浓度差呈反比 §5相变动力学 固态相变动力学分析主要取决于: 精确的测量信息; 模块化动力学解析模型。核、长大速度与温度有关→相变速度与温度有关 数学公式不精确 实验测定的等温转变曲线(描述转变量与温度、时间的关系)比较实用 相变过程的分析方法 热分析方法:在程序控制温度条件下,测量物质的物理性质随温度变化的
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