[工学]半导体物理实验讲义.doc

实验一：晶向的测定 一、X射线衍射法（XRD） 有关x射线的知识：λ：0.01?~10?  经典电动力学：带电粒子在加速（或减速）时必伴随着辐射；电子与原子碰撞时，发生电子聚然减速时，由此产生的辐射称为轫致辐射（连续谱）。 库伦场中，减速是连续的，所以轫致辐射是连续的 ? 用量子理论，很容易解释右图 特征辐射：电子内壳层的跃迁 平面方程： 2、空间点阵 Miller index (h,k,l) 晶格常数 对立方晶体 3、XRD原理 衍射是绕射与干射的共同作用结果。（彗更斯原理） 每一个反射点组成反射光栅，共同组成衍射光栅 光栅方程：（主要考虑干涉） 2dsinθ=kλ——衍射级数  （光程差 2dSinθ=kλ） 2称为衍射角 AC+CB 光程差为Kλ，相位： 双缝干涉 光程差 Ip=2Io (1+cosδ) 暗点： 说明光程差为4、劳厄法测单晶晶向 取k=1一级衍射极大 取λ为连续波长 对不同的d，掠射角不同，一般是分立的，满足上式的λ必须是连续波长，所以劳厄图是分立的点像。 5、德拜法（粉末法，多晶）  单色射线如=1.54056 ? 对于入射射线成θ角的射线来说，在λ一定时，总存在一个晶面间距为的晶面，满足上式。在大量的多晶中存在相同的满足反射条件的晶向，从而形成衍射环。一般θ小，d大（对应低指数晶面）。以前用拍摄法，目前用计数器来实现。 （元素周期表中很少，只有一种原子是SC结构，Po） 6、衍射强度讨论 衍射强度是X射线与单个电子→一个原子中的所有电子（电子云）→晶格中的 ↑ （原子散射因子fi） 散射 所有原子 （晶体结构因子F） ①简单讨论fi P点与o点散射光的位相差（kx） 所以总的散射： exp []  ②几何结构因子 类似上述讨论： [] 最终得一级衍射强度： (x,y,z)为晶格格点的坐标 对于同种原子，fi都相同 ③消光规律 简单立方：格点坐标为（0，0，0） ∵一个品胞中含1个原子 ∴说明无消光现象 体心立方：包含2个原子坐标为（0，0，0）和（），代入表达式得： 面心立方包含4个原子 部分为奇数，部分为偶数，出现消光。（即：h,k,l都为偶数或都为奇数才出现衍射增强）。 金刚石结构8个原子坐标为 sc bcc fcc diamond 100 110 111 200 210 211 220 221 300 301 311 222 320 321 400 410 322 411 330 331 420 1 2 3 4 5 6 8 9 9 10 11 12 13 14 16 17 17 18 18 19 20 2 4 6 8 10 12 14 16 18 20 3 4 8 11 12 16 19 20 3 8 11 16 体心立方衍射图样： 7、XRD晶向测定方法 晶向与表面法线的偏移角度为 测试时事先将计数管放在满足衍射条件的2角度上，然后调整使计数器计数最强。 111 220 311 400 331 422 511 14°14′ 23°40′ 28°05′ 34°36′ 38°13′ 44°04′ 47°32′ 13°39′ 22°40′ 26°52′ 33°02′ 36°26′ 41°52′ 45°7′ 13°14′ 22°41′ 26°53′ 33°03′ 36°28′ 41°55′ 45°9′ 二、激光定向（腐蚀法） （111）面是原子密排面，特点 ①（111）面间原子法合力弱而面内原子结合力强， 所以（111）面是自然解理面 ②（111）面表面能低，所以生长、外延、腐蚀时，速率最低，成为裸露面。(体现为 结合紧密) 由（111）面组成的正八面体 ①红色的为（110）面（OEFO‘）：腐蚀坑为形状（二重轴） ②ABCD (100)面，腐蚀坑□形状（四重轴） ③ABC为（111）面，腐蚀坑为△形状（三重轴） 反射花样