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摇 第42卷摇 摇 第2期摇 摇 2013 年4 月 表面技术 摇 摇 摇 Vol.42摇 No.2摇 Apr.2013 SURFACE TECHNOLOGY 摇摇摇 95 PECVD技术制备低折射率光学薄膜 1,2 1,2 1,2 胡九龙 ,杭凌侠 ,周顺 (1.西安工业大学,西安710032;2.陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安710032) 摇 摇 [摘摇 要]摇 采用等离子体增强化学气相沉积法在硅片上沉积含氟氧化硅薄膜,用椭偏仪测量薄膜的光学参 数,研究了在固定抽速和真空度自动调节情况下C F 气体流量的变化对薄膜折射率、消光系数、沉积速率的影 2 6 响。 实验表明在温度300 益、射频功率200 W、压力20 Pa,SiH 60 sccm,N O 40 sccm,C F 30 sccm 的工艺参数 4 2 4 2 6 -4 下沉积的薄膜在550 nm处折射率为1.37,消光系数4伊10 ,可作为光学减反膜的材料。 [关键词]摇 薄膜;PECVD;低折射率;SiOF [中图分类号]TG174.444;O484.4摇 摇 摇 [文献标识码]A摇 摇 摇 [文章编号]1001鄄3660(2013)02鄄0095鄄03 Preparation of Low Refractive Index Optical Thin Film by PECVD Technology 1,2 1,2 1,2 HUJiu鄄long ,HANGLing鄄xia ,ZHOUShun (1.Xi忆an Technological University,Xi忆an710032,China; 2.Shaanxi Province Key Lab of Thin Film Technology and Optical Test Open,Xi忆an710032,China) [Abstract]摇 The Fluorine鄄containing siliconoxidefilmwasdepositedonasiliconwaferbyplasmaenhancedchemicalva鄄 por deposition. The optical parameters of the coatingsweremeasuredby ellipsometer andthe effect of C F gasflow rateonthe 2 6 refractive index ,the extinction coefficient andthe depositionrateof the coatingwasstudiedwhenthepumping speedwasfixed or the degree of vacuum isfixed. Experiments show that at550nm the refractive index is 1.37 and the extinction coefficient is -4 4伊10 in the case of