第五章 电流镜.pdf

第五章 电流镜 第五章 电流镜 提纲 提纲  1、基本电流镜  1、基本电流镜  2、共源共栅电流镜  2、共源共栅电流镜  3、有源电流镜  3、有源电流镜 ★ 电流镜做负载的差分放大器 大信号特性 小信号特性 共模特性 1、基本电流镜 ★ AIC 中经常需要电流源 ★ 对电流源的期望 ● 电流值能由设计者方便地设定在某一期 望值，并且电流值的偏差能被控制在一定 范围内 电流值往往会随工艺、电源、温度等变化而变化 ● 电压裕度、电阻、电容、噪声等 ★ 如何电路实现并可设、精确、稳定？ 基于电阻分压的电流源 ★ 电流值对工艺、电源、温度等变化 敏感 不同芯片阈值偏差可达100mV μ、V 随温度变化 n TH ★输出电压范围 大于M1管的VOV 即可 ★为了输出电压范围较大，VOV取典 型值200mV 若VTH 改变50mV，则IOUT改变44 ％ 评价：电流值无法精确、稳定，很难实用 基于基准电流的电流源－原理 ★IREF ● 基准电流 ●由专门的电路来产生，如带隙基准源等，是一个重要、活 跃的研究领域 ●基准电流的电流值精确、稳定 （对电源电压、工艺偏差、 温度变化等不敏感） ★ 基于IREF ，“复制”产生所需各电流 ●常用复制方法是先把IREF转换为电压，在由该电压转换 为电流  电流源的设计是基于对基准电流的“复制”；  电流源的设计是基于对基准电流的“复制”；  两个都工作在饱和区且具有相等栅源电压的相同晶体管传  两个都工作在饱和区且具有相等栅源电压的相同晶体管传 输相同的电流 （忽略沟道长度调制效应）。 输相同的电流 （忽略沟道长度调制效应）。 2010/11/4 基本电流镜 6 基本电流镜－等量复制 镜面 忽略了λ的影响 （会影响复制精度） Iout也可以不等于IREF 基本电流镜－比例复制 该电路可以精确地复制电流而不受工艺和温度的影 响；Iout与IREF 的比值由器件尺寸的比率决定。 设计者通过合理设计M1和M2管的尺寸比，即可获得期望的电流 若I 精准、稳定，合理设计M1管和M2管的尺寸和位置，使它们的V 、μ、C 等 REF TH n OX 工艺参数匹配度高、W/L 比值在一定精度内，则可获得一定精度且稳定的Iout 电流镜中晶体管的L通常设计为相同 横向扩散和场氧化层侵蚀会使 Leff ≠Ldrawn 、Weff ≠Wdrawn VTH与L有关 结论：取L1=L2，便于获得期望的精确电流值 电流镜中晶体管的W 的取值方法 电流镜中晶体管的W 的取值方法  例子：  例子：  实际设计中，所有晶体管采用相同  实际设计中，所有晶体管采用相同 的栅长，以减小由于源漏区边缘扩 的栅