两种物理气相沉积氮化钛涂层的结构及摩擦性能研究-中国科技论文在线.PDFVIP

两种物理气相沉积氮化钛涂层的结构 及摩擦性能研究 1 2 1 1 2 2 2 韩修训 , 阎鹏勋 , 阎逢元 , 刘维民 , 余画洋 , 徐建伟 , 吴志国 ( 1. 中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室, 甘肃 兰州　730000; 2. 兰州大学 等离子体与金属材料研究所, 甘肃 兰州　730000) 摘要: 分别利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置和直流磁控溅射装置在不锈钢基底上制备了 T iN 涂层, 采用X 射线 光电子能谱仪、 射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的结构及形貌进行了表征; 利用纳米压痕仪测定了涂层的硬 X 度; 在 型动摩擦系数精密测定仪上考察了涂层的摩擦学性能. 结果表明: 与采用直流磁控溅射法在 400 ℃基 D F PM 底上制备的 T iN 涂层相比, 采用磁过滤沉积装置在室温下制备的 T iN 涂层更加致密, 表面平滑, 最大硬度达 35 GPa, ( ) 摩擦系数明显较小 0. 1～ 0. 4 , 耐磨性较好. 关键词: T iN ; 涂层; 磁过滤阴极弧等离子体; 纳米压入; PVD ; 结构; 性能 中图分类号: T G 174. 44 文章标识码: A 文章编号: (2002) 　　T iN 涂层具有硬度大, 化学稳定性好, 与钢等材 1. 0 Pa 左右, 氩气与氮气分压比 9 ∶1, 沉积电压维 料的热膨胀系数相近等优点, 目前已被用作切削刀 持在420 V , 沉积时间 50 m in , 涂层厚度约2 m ; 在 具、抗磨粒和磨蚀磨损部件的表面工程材料. 研究表 整个沉积过程中, 基底温度不超过 400 ℃. 在磁过滤 明, 采用一般 PVD 沉积方法制得的 T iN 涂层由于含 沉积装置(FCA P ) 上制备 T iN 涂层时, 采用高纯钛阴 - 4 有大量柱状结构而导致韧性降低, 易于从基底剥落, 极靶, 真空室衬底压强为 6. 7 ×10 Pa , 反应气体为 且表面粗糙度较大[ 1～ 4 ] , 这大大限制了 T iN 涂层的应 A r 和N 2 ( 分压比 1 ∶10) , 反应气压保持在 1. 0 × 用. 磁过滤阴极弧等离子沉积装置是近期发展起来的 - 2 10 Pa , 沉积电压为 25 V , 沉积时间为 30 m in , 涂 基于高离化率和高离子能量的制膜技术, 它利用磁偏 层厚度为 2 m 左右; 在沉积 T iN 涂层过程中, 基底 转管成功消除了普通阴极弧沉积装置易产生宏观粒 温度不超过 60