国科会高屏地区奈米核心共同实验室-国立中山大学奈米科技研发中心.docVIP

國科會 高屏地區奈米核心共同實驗室 簡介 奈米科技為國內研究重點項目，高屏地區在此方面亦有極多的研究小組投入其中，而中山大學(以下稱為本校)一直以來即為高屏地區奈米相關研究之中心，亦於200年成立奈米中心，於中心內設置許多基本量測儀器，服務奈米相關研究；另外高屏地亦是國內各傳統及高科技下遊產業之重鎮，在國內「兩兆雙星」的明星產業中，TFT-LCD之重要廠商亦有部份落籍南部，未來路竹工業園區及通訊園區設立完成後，更將高屏地區以傳統工業為主之發展現況，漸偏向高科技研發。依據高屏地區各研究單位及生產單位的特色，統整研發方向，結合中山現有之貴重儀器，於200年在本校內成立「高屏地區奈米共用實驗室」(以下稱為本實驗室)，購置相關製程儀器，引進高級人力，提升奈米相關研究。 本實驗室於200年起陸續建構奈米科技研究所需之各項儀器及設備，更於本校理學院理1012及1013室成立等級Class10000之無塵室。該無塵室佔地約80坪、廠務端約佔地20坪。各製程儀器及分析儀器分部位置如Fig.1。各項儀器如Table。目前在製程儀器方面已建構完整半導體元件製程所需之各項儀器及分析儀器，不足之部分則結合本校奈米中心及貴儀中心，方便校內外使用者使用。 Fig 1-1.Clean room map Table 1-1. Process Systems NO. Facilities 位置 1 Mask Aligner and Exposure System (光罩對準機) 理1013室 2 Multi-Target Sputter (多靶磁控濺鍍系統) 理1012室 3 High Density Plasma Chemical Vapor Deposition (HDP-CVD) (高密度電漿化學氣相積系統) 理1012室 4 Inductive Couple Plasma Etcher (ICP-Etcher) (感應耦合式電漿蝕刻系統) 理1012室 5 Dual E-Beam Evaporator (雙電子束蒸鍍系統) 理1012室 6 Rapid Thermal Annealing System System (RTA) (快速退火系統) 理1012室 7 Laser Annealing System (雷射退火系統) 理1013室 8 Laser Ablation System (雷射濺鍍系統) 理1013室 Table . Analysis Systems NO. Facilities 位置 1 Focus Ion Beam (FIB) (聚焦離子束) 理1009室 (奈米中心) 2 4 point probe (四點探針) 理1012室 3 nk analyzer (薄膜特性分析儀) 理1012室 4 3D Alpha-Step Profilometer (三維輪廓儀) 理1013室 5 Microscope (光學顯微鏡) 理1013室 Table 1-3.Other Systems NO. Facilities 位置 1 Spin Coater Hot Plate (旋轉塗佈機加熱板) 理1013室 2 Ultrasonic wave clean system (超音波洗淨系統) 理1013室 3 Wet Bench (濕式蝕刻台) 理1013室 理1013室 Fig2. 各項儀器運用於元件製作分類 共用設備及工安環保 為確保使用者能在安全的環境下進行實驗，本實驗室除不定時開設安全講習外並由專人負責每天進行廠務端的安全維護。由建造初期至今已投入近千萬在安全防護及廠務設備方面。目前已完成建置完成包含：24hr線上監視系統、氣體洩漏偵測警報系統、特殊氣瓶放置櫃、各式化學防護器具、警急洩漏處理防護衣(A級防護衣)、空污防制設備(Scrubber)及污水處理設備等設備。除此之外並建立不斷電系統(UPS)及自給發電系統(柴油發電機)，以確保在停電或無預警停電時，仍可維持基本的安全防護，以確保使用者安全。為達到良好的製程品質，本實驗室除投入無塵建造之外，並比照業界，建立超純水製造系統(≧18 MEG-OHM)，該系統每小時產水量達1500 L足以運用在各項實驗使用上面。 Fig .特殊氣體存放櫃 成員介紹 本實驗室結合高屏地區奈米相關研究專家學者共同組成研究團隊，提供高屏地區奈米研究、人才培育等研究及諮詢資源。以下為本實驗室主要成員。 Table .主要成員 姓名 職稱 單位 簡歷及專長 主持