[工学]第二章 真空镀膜技术的物理.pptVIP

第二章 真空镀膜技术的物理基础 Ch.2 Physical Foundation of Vacuum Coating Technology 2.1 离散过程的物理基础 Physical foundation of scattering process 蒸发过程分析 原料固相——液相——气相 少数直接升华，固相——气相 如铬 原料参与相变的量：首先全部液化，然后部分汽化——感应坩埚 或者：只有一部分参与液化和汽化，其它只是受热升温——电子枪，激光 所需要的热量：固相升温热、熔化热、液相升温热、汽化潜热 热损失量：坩埚热损失 溅射过程分析 原料固相——气相， 原料参与相变的量：只有被溅射原料参与溅射过程，其它原料只是受热升温， 所需能量：材料被溅射所需能量，仅占 % 损失能量： 产生入射离子所消耗的能量； 离子入射动能量转化为靶的热量损失 2.2 输运过程的气体分子运动论基础 Molecular gas dynamics for transfer process 1)气体分子的速度分布—麦氏分布 Maxwell distribution of molecular velocities 速率分布 2)分子间的空间平均碰撞次数—平均碰撞率 The mean number of molecular collisions —collis