眼镜镜片制作技能检定丙级术科考试程序逢甲大学.pdfVIP

2013/12/25 研磨模式的理論 散粒研磨方式為高技術光學鏡面製造技術之一，到現 在能一直廣泛被加以使用，最大優點為其使用機器簡 鏡片製作 單及價格便宜。而且用此種方法能製造出極佳品質及 最高精準度的光學面。可被其用來加工的材料，包括 金屬、玻璃、晶體及半導體材料等等，而可製成的成 陳德請 品如：光學元件、光學鏡面、及其它要求高品質的光 逢甲大學電機工程學系副教授 學產品。（如稜鏡、非球面等）散粒研磨乃是在工作 物表面及金屬製的磨盤之間，加以研磨材料（氧化鋁 、碳化矽等）與研磨劑（如水、輕油），工作物與磨 盤以相當的壓力接觸，彼此之間又有相互運動，因研 中 華 民 國 九 十 八 年 三 月 四 日 磨材料之研磨作用，而將工作物表面作微量磨削，乃 穫得尺寸精度正確而且平滑的加工面。 研磨模式的理論 機械的運動原理 根據 Preston於1927年提出光學鏡面的研磨理論－－Preston 研磨和拋光時機械運動的適當控制，可 Equation得知工作物表面上任一點的研磨量ΔW 可表示如下 ：  ΔW=∫T Kwear Pf ‧Vp dt 將鏡面誤差減至十分之一波長以下，所 (1) 意即鏡面被磨去的研磨量正比於鏡面與磨盤接觸面上的壓力和 以如何去控制是非重要的。傳統研磨與 相對速度的乘積。其中 拋光所用的機器形式很多，而本文專就  ΔW ：鏡面某小區域被磨去的平均材料深度,  P ：鏡面上某點所受的瞬時壓力 ， f R. H. Strasbaugh公司所生產的擺動式  Vp ：該點與磨具瞬時的相對速度 ，  dt ：為某一短瞬時段 ， 研磨拋光機的運動原理加以說明，以期  T ：全部研磨時間 ， 達到精密控制。下圖示為擺動式研磨拋  Kwear ：為一比例常數與研磨料顆粒大小，環境溫度、工作物 材質、磨盤材質、研磨液性質、工作物及磨盤形狀、瞬時壓力 光機的機械結構圖。 及瞬時的相對速度等有關。經由文獻得知，在一般研磨條件下 ，研磨時間、壓力、速度、及磨料顆粒大小，每一參數與研磨 量之間都有一線性比例關係存在。 1 2013/12/25 運動方式  其運動方式如下圖所示：B點繞偏心轉軸 O點作等速 率圓周運動，而B點與 A點以固定長度 (L )的連桿 2 連接；擺臂以點為軸心P ，A點與 點為固定距離P