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2018-03-11 发布于天津
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氢氟酸废液

科技產業廢棄資源物之再利用現況分析氫氟酸廢液及氟化鈣污泥為例- 工業局永續發展組顏鳳旗 104年6月24日簡報內容一、事業廢棄物來源二、產出及貯存現況分析三、清理流向及現況分析四、資源化處理方式五、問題檢討六、推動策略七、結論 2 一、事業廢棄物來源產源事業  半導體(IC) 、液晶顯示面板(TFT-LCD) 、太陽能電池(SOLAR CELL) ，均使用大量的49%氫氟酸 (HF) 。製程來源 3  HF用以蝕刻 IC 、TFT-LCD面板與太陽能晶圓片後，將產出氫氟酸廢液。  製程產出之廢氫氟酸，其廢液濃度有的高達49% ，有的低到0.5%或數百 ppm ，濃度越低，體積重量( ) 越龐大。 高濃度氫氟酸廢液 (CHF) ：其氟濃度＞0.5﹪ ，為製程廢水。 低濃度氫氟酸廢液 (LHF) ：10ppm ＜氟濃度＜0.5％，包含低氟濃度製程廢水、Local scrubber 、Central scrubber排水。 3 一、事業廢棄物來源事業廢棄物來源_半導體相關製程產業鏈：晶圓積體電路封裝電子產品氟化鈣污泥（R-0910 ）晶圓廢水處理設施有機性污泥（D-0901 ）無機性污泥（D-0902 ）蝕刻廢水氧化清洗擴散黃光蝕刻去光阻清洗測試積體電沉積路晶圓薄膜廢光罩廢蝕刻液廢溶劑(廢廢矽晶（D-0499 ）（C-0202 ）去光阻劑) （R-2505 ）廢溶劑(廢光阻劑（C-0301 ）廢電子零組件、廢溶劑、廢顯影液) 廢金屬廢料（C-0301/D-1504 ）（C-0301 ）（E-0217/E-0221 ）廢酸（C-0202/D-1503 ）廢酸含氫氟酸: 、鹽酸、硝酸等廢蝕刻液含氫氟酸: 、鹽酸、硝酸、磷酸、醋酸等