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Methods in Preparation of VO2 films-材料合成化学课件PPT

1.Introduction properties 2.General methods of VO2 film Sol-Gel Chemical Vapor Deposition Magnetron sputtering Vacuum vapor plating …… 2.1 Inorganic Sol-gel Method 1、precursor :temperature 800℃~900 ℃ keep the temperature 10~25min V2O5:H2O≈1:100 2、sol: precursor:H2O=1:3 2.2 CVD CVD systems CVD equipment Steps involved in a CVD process Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Thin films of VO2 source material mainly are V(C5H7O)4 ,VOCl3 and VCl4 。 ?At 525 ℃, the SiO2 glass substrate, to (VCl4 :H2O) is1: (0 ~ 9) of raw materials,Has been film of VO2 . 2.3 magnetron sputtering 3. shematic diagram 4.Process chart 1、Fix monitoring instrument for the measuring of film; 2、Ion beam subsidary evaporation 3、imply non-oil system,such as low temperature pump and molecular. 3.1Comparison References: 1.A Subrahmanyam, Y Bharat Kumar Reddy and C L Nagendra。Nano-vanadium oxide thin films in mixed phase for microbolometer applications。J. Phys. D: Appl. Phys.41(2008)。 2. F.Guinneton,L.Sauques,J.C.Valmalette.Optimized infrared switching properties inthermochmmic vanadium dioxide thin films:role of deposition process and microstructure.Thin Solid Films,2004,446(2):287-295 3.P.Jin,M.Tazawa,M.Ikeyama,et al Growth and characterization of epitaxial films of tungsten-doped vanadium oxides 011 sapphire(110)by reactive magnetron sputtering. 4.Journal ofVacuum ScienceTechnologyA,1999,17(4):1817-1821R.Lopez,T.E.Haynes。L.A.Boatner,et a1.Size effects in the structural phase transition ofV02 nanoparticles.Physical Review B,2002,65,2241 13 5.L.B.LiIl’T.C.Q,et a1.Phase-transition properties of V02 thin films changed byhigh flux electron beam radiation.Surface and Coatings Technology,2002,1 58—1 59:530.533 6.李志栓,李静,吴孙桃,等.射频磁控溅射方法制备氧化钒薄膜的研究.厦门大学学报(自然科学版),2005,44(1)-37-40 7.田雪松,刘金成,掌蕴东,等.二氧化钒薄膜的退火组分变化及光学特性研究.激光技术,2005,29(3):332-334 8.陈素君,陈月曾。真空蒸发镀膜设备性能的改进 45(6),2008. * Methods in Preparation of vanadium oxide f

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