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以不同模型技术评价双闸极互补式金氧半场效电晶体的电路效能
國立宜蘭大學工程學刊(2006)
第二期第 15~26 頁
以不同模型技術評估雙閘極互補式
金氧半場效電晶體的電路效能
江孟學
國立宜蘭大學電子工程學系助理教授
摘 要
此論文主要是探討雙閘極互補式金氧半場效電晶體模型技術,其應用範圍在於元件與電路的模擬。
這些模型技術包括了查表模型、精簡模型及混合式模擬,各種模型技術各有其特色。我們運用了不同的
模型技術來評估雙閘極互補式金氧半場效電晶體的電路效能,並且在電路應用的設計上,提供了最佳化
的設計方法。
關鍵字 :雙閘極金氧半場效電晶體,鰭式場效電晶體,TCAD,精簡模型
宜蘭大學學報 第二期
On the Evaluation of Double-Gate CMOS Circuit
Performance via Different Modeling Techniques
Meng-Hsueh Chiang
Assistant Professor, Department of Electronic Engineering, National Ilan University
Abstract
Double-gate CMOS modeling techniques for device and circuit simulations are presented. The
modeling techniques, including look-up table modeling, compact device modeling, and mixed-mode
simulation, have their unique features suitable for evaluating high performance Double-Gate CMOS
circuits.
Keywords :Double-Gate MOSFET, FinFET, TCAD, compact model.
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以不同模型技術評估雙閘極互補式金氧半場效電晶體的電路效能
I. Introduction The examples for these modeling techniques are reviewed
in following sections, respectively.
Interest in the double-gate (DG) MOSFET has been
growing as the end of the ITRS roadmap [1] is being II. Look-up table modeling
approached, the conceptual figure of which is shown in Fig.
The methodology of LUT modeling is shown in
1. The inherent gate-gate charge coupling via t
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