场诱导化学合成法1方法培训.ppt

等离子体中各种粒子间的碰撞过程 中性粒子 电子 正离子 负离子 光子 电子与中性原子、分子间的 基元(elementary)碰撞过程 1) 弹性（ elastic ) 碰撞过程， 仅有平动能交换 2) 非弹性（ inelastic ) 碰撞过程， 包含内能(振动、转动、电子态）变化 3) 电离（ionization) 碰撞 e + A ? A+ + 2e 4) 附着( attachment ) 碰撞 （当A具有正电子亲合势时） e + A + M ? A- + M 反应 ( reactive) 碰撞， 如解离反应： e + AB ? A + B + e 6) 复杂 碰撞过程， 如： 解离电离 e + AB ? A+ + B + 2e 解离附着 e + AB ? A- + B 低温等离子体的产生方式 气体放电 等离子体 （电场作用加速荷电粒子导致电离） 1）低气压放电：直流 辉光放电 高频放电 （微波、射频） 2）高气压放电：直流 弧光放电 (~LTE) 电晕放电 (NTE) 介质阻挡放电 (NTE) 2. 热致电离等离子体 (高平动能原子、分子碰撞导致电离) 高温燃烧、爆炸、击波 3. 辐射电离等离子体 （光电离） X-射线、紫外光等 电晕层外区 （暗区） 电晕放电 形成条件: 二电极曲率半径相差 悬殊 (线筒、线板、针板） 特点： 1. 高气压 (105-106Pa) 高电压降 (103-105 V) 低电流密度 (10-3-10-6A/cm2) 4. Te Ti ? Tg ? 102 °K 电晕层 筒状电极 线电极 介质阻挡放电 形成条件: 二电极间有绝缘介质存在 交变电场 特点： 1. 高气压 (105-106 Pa) 高电压降 (103-105 V) 低电流密度 (10-2-10-3A/cm2) Te Ti ? Tg ? 102 °K HV（a.c.) 大规模集成电路制备中的等离子体化学刻蚀与沉积 (已大规模工业应用） 等离子体平面显示器 (PDP) (已进入规模生产阶段） 等离子体化工合成及转化 （O3发生器，已工业化半世纪，CH4转化，煤转化，等离子体引发聚合，……) 等离子体环境工程 （燃煤电厂烟气中氮、硫氧化物脱除，VOC脱除， 汽车尾气中氮氧化物脱除，固体废料处理，……) 纺织品等材料表面的等离子体改性 (已产业化） 等离子体各种新型材料 （金刚石，类金刚石，碳纳米管，……) 等离子体化学的主要应用 等离子体纳米粉制备系统 等离子体发射器 等离子体化学气相沉积技术 PCVD等离子体化学气相沉积设备 CH4 高温等离子体的应用 由于高温等离子体温度高，所以在无机合成中不能用来合成熔点低、易挥发、易分解的化合物，而主要用于冶金、合成熔点高、稳定性强的化合物(氮化物、碳化物、硼化物、氧化物等)，制备金属超微粒子，喷涂防热防腐层。 1)．氧化物粉末的合成- 高温等离子体制备氧化物 a. 用功率1Mw的等离子体炉热分解锆石英，再用NaOH熔液处理分解了的粉末，即得ZrO2。其中SiO2的含最低于0.5%。TiO2，ZrO2均是很好的颜料。 b. 用旋转等离子体炉加热Al2O3(SiO2)和碳的混合物，气化了的AlO(SiO)与水蒸气反应，可得Al2O3(Al2O3-SiO2)粉末。 c. 以AlCl3(AlCl3+SiCl4)为原料与氧等离子体反应，可制得烧结性好的Al2O3(Al2O3-SiO2)粉末。 d. 把SiCl4通入氧等离子体中，使生成的SiO2熔化，制得石英玻璃，该法制得的石英玻璃与氢氧焰法的相比，含氢最低，是很好的光导纤维材料。 e. 以TiCl4为原料与氧等离子体反应生成的TiO2从高温骤冷(1628到973K)下来，即得金红石型(高温稳定相) TiO2有较好的耐高温和耐光性。 2)．碳化物、氮化物的合成