宽频高功率灯源之模拟优化及均匀性探讨.pdf

寬頻高功率燈源之模擬優化及均勻性探討 劉兆峰 翁俊仁 鄭璧瑩 藍子賢 財團法人國家實驗 財團法人國家實驗 國立交通大學機械 財團法人國家實驗 研究院儀器科技研 研究院儀器科技研 系 研究院儀器科技研 究中心/ 國立交通大 究中心 究中心/ 國立交通大 學機械所 學電機所 ckkevven7140@ya cjweng@itrc.narl.o pycheng@cc.nctu. basket199043@h .tw rg.tw edu.tw 摘要 光學蝕刻(photolithography)是半導體器件的加工方式之一，是利用曝光和顯影在 光刻在物件刻畫幾何圖形，優點是可以控制形成的形狀、大小，不過有個缺點，只能使 用在平面的加工物件上，本實驗目的是分析兩種形式的光源，觀察投射在蝕刻物體上的 幾何形狀，還有做投影面的位移，觀察光圖會如何變化，提供以後要做光學蝕刻的參考。 關鍵字：共焦、可調焦距、表面形貌 壹、前言 一般光學蝕刻的蝕刻物體有很多不同的樣式，為了瞭解燈泡擺設的方式不同，是否會影 響蝕刻的效果與功率之差別，分析出來的結果可以提供需要蝕刻不同形式之需求，進而 選擇效果最好的光源擺設方式。 所以在本研究會分析這兩種光源之效果，在做出這兩種的優缺點評估，了解是否影響時 刻效果。 貳、研究方法 實驗步驟如下: (1) 選擇分析之光源 (2) 建立光源模型 (3) 進行投影面分析 (4) 投影面之位移分析 (5) 交換外殼分析 實驗開始前須選擇兩種擺設方式不同的燈泡機型，選用了 Newport 直立式與 OBB 橫放式兩種，使用 solidworks 繪圖軟體進行建模之工作，如圖 1 所示。 1 圖1.直立式與橫放式之燈源模型 模型建立完成之後，使用光學分析軟體TracePro 進行分析，載入繪製好的圖形，在設 定各個材料的表面性質(Surface Property) ，例如外殼就要設定成完全吸收光線 (Perfect Absorber) ，輸入相關參數，如圖2.為光源設定之相關參數，光線數量設定為 1000000 ，為了讓兩種形式能做功率的比較，光線數量為定值，方便做比較，發光形 式(Emission Type)選擇 Flux ，波長(Wavelengths)輸入0.532 。 圖2.光源參數 接下來要設定投影面，用來觀察光線投影在表面上的形狀，投影面距離要設定距離光 源多長，是以最具焦為基準，在沒有進行投影面位移的時候，投影面上面的光要看起 來最小，代表最具焦，如圖 3.為投影面定之參數，投影面大小設定為 100x100mm 。 圖3.投影面設定 2 而 Newport 直立式與OBB 橫放式分別要加入透鏡(Lens)與錐形反射鏡(Conic Reflectoer) ，因為我們不知道透鏡與錐形反射鏡的相關參數，我們使用逆向工程找出 最符合的數值，透鏡以改變表面半徑 1 與表面半徑 2 的參數，找出最符合的值，分別 為 51 與-32.8 ，而錐形反射鏡以改變焦點距離(Focal length) ，找出最符合的值為 4.58 ，如圖4.為透鏡與錐形反射鏡設定參數。 圖4.為透鏡與錐形反射鏡設定參數 做完分析前所需的設定工作之後就要開始進行分析的步驟，除了分析最具焦時的投影 面圖以外，為了更了解投影面上的光變化，我們改變投影面的距離，來觀察光線的變 化，也更能知道投影面是如何變化的，比較完之後再進行兩台機型光源的交換，為了 比較兩種