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适合于叠孔结构的半加成工艺研究Thestudyofsemi-additiveprocess
適合於疊孔結構的半加成工藝研究
付海濤,程凡雄,任瀟璐,羅永紅
(上海美維科技有限公司)
黃偉
(上海美維電子有限公司)
The study of semi-additive process suitable for stacked via structure
Haitao Fu, Fanxiong Cheng, Xiaolu Ren, Yonghong Luo, Wei Huang
3
摘要: 本文介紹了一種適用于疊孔結構 HDI 類產品的創新性半加成工藝,即 SAP ™ 技
術(Semi-Additive Process with Plated Pillar )。這種半加成技術融合了SAP 工藝,鐳射鑽
孔和電鍍填孔的長處,既可以通過閃蝕工藝完成精細線路(L/S=50um/50um )的製作,
也可以通過鐳射鑽孔,電鍍填孔與一定的蝕刻工藝完成疊孔結構。研究內容包括主要的
工藝流程,使用的材料,各制程的技術難點及解決方法。
Abstract Semi-additive process with plated pillar (SAP3 ™) suitable for stacked via structure
of HDI products was investigated. Combined SAP process, laser drill, and copper plating,
SAP3 ™ can manufacture fine line width/space down to 50um/50um. Using laser drill, copper
plating and etching process, we finished the stacked via structure. In this paper, processes,
materials, difficulties and solutions would be addressed.
Keywords: Semi-Additive Process with plated pillar, laser drill, copper plating, stacked via
前言
隨著電子產品向輕薄短小的方向發展,對產品精細化程度的要求也越來越高。在印
製電路板的製作中,除了減小導通孔孔徑外,縮小線路尺寸也是提高產品密度,減小完
成板尺寸的一個重要方向。線路板製作的過程中面臨兩個主要問題: 1 ,精細線路的製
作;2 ,層間的可靠互連。
對精細線路製作而言,減成法是傳統且應用最多的成熟工藝,但加工細線條的能力
有限。全加成法適合製作精細線路,但成本高且工藝還不成熟。半加成法雖然可以進行
精細線路的加工,但也存在化銅層與介質層間結合力較差,熱可靠性表現不佳的缺點。
在線路板製造工藝中,另一個關鍵的問題是通過一定的手段實現層間的可靠互連。
除了採用機械鑽孔和沉銅電鍍方式加工導電通孔的工藝,隨著高密度互連技術的發展,
先採用鐳射加工盲孔,再沉銅電鍍的方式也被大範圍地使用。在盲孔排布上,既可以採
用錯孔設計的方式,也可以採用疊孔設計的方式。對於這兩種聯通方式,由於疊孔形式
節約了佈線空間,同時在高頻傳輸時可以減少電磁干擾,是目前高端高密度印製電路板
產品所採用的導通方式。為了實現這種結構,關鍵的一點是要採用電鍍填孔的方式將盲
孔電鍍填平。目前線路板製造行業採用整板電鍍填孔的工藝來實現該目的。
綜上所述,立足於如何克服減成法、加成法與半加成法在精細線路製作上各自存在
的問題,同時又能實現層間疊孔結構的連接方式,本研究提出了一種創新性的半加成工
1
3
藝,即 SAP ™ 技術(Semi-Additive Process with Plated Pillar ),在完成疊孔結構
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