广角度入射之广波域可见抗反射蒸镀研究-etop-工程科技推展平台.pdfVIP

行政院國家科學委員會專題研究計畫成果報告 廣角度入射之廣波域可見抗反射蒸鍍研究 計畫編號： NSC 94－2215－E－270－001－ 執行期間：94 年 8月 1日 至 95 年 7月 31日 計畫主持人：劉 裕 永 建國科技大學電子工程系 摘 要 在本研究中 , 吾人提出新型數值合成設計方法 , 它是根基於一種跳躍搜尋演 算 , 並運用它來實現廣角度入射之廣波域可見抗反射設計,可適用於正射至 45o 之斜向入射 . 此一跳躍搜尋法相當簡單與敏捷, 且可自動產生其設計的起始點, 然後精煉其廣角度可見抗反射成效以獲得最終之設計. 運用不同的跳躍搜尋方 式針對兩種-物質 20-層系統作廣角度可見抗反射設計 , 其最終設計可簡化為 14- o 層結構 , 最大之廣角度可見反射率可降低至 0.869%, 而在 0-45 之間的最大平均 可見反射率則減低至 0.646% 以下. 關鍵詞 :跳躍搜尋、廣角度入射、抗反射蒸鍍設計、搜尋演算法、廣波域、可見 頻譜區 Abstract In this study, we propose a new numerical synthesis design approach, based on a jumping search algorithm, and apply it to achieve a broadband visible antireflection o coating design for a wide-angular-incidence with an incident angle of up to 45 from the normal. This jumping search method is simple and natty, and can generate its own starting point automatically, then refine the wide-angular visible AR performance to obtain the final solution. It is shown that the maximum wide-angular visible spectral reflectance, obtained by different types of jumping search for a two-material 20-layer system, is reduced to less than 0.869% with 14-layer structures, and the maxi