soc工艺课件 ch10光刻技术知识.pptVIP

10.3光学分辨率增强技术 光学分辨率增强技术包括移相掩模技术（phase shift mask )、 离轴照明技术(off-axis illumination)、光学邻近效应校正技术(optical proximity correction)、光瞳滤波技术（pupil filtering technology）等。 10.3.1移相掩模技术 移相掩模（PSM）的基本原理是在光掩模的某些透明图形上增加或减少一个透明的介质层，称移相器，使光波通过这个介质层后产生180°的位相差，与邻近透明区域透过的光波产生干涉，抵消图形边缘的光衍射效应，从而提高图形曝光分辨率。移相掩模技术被认为是最有希望拓展光学光刻分辨率的技术之一。 10.3.1移相掩模技术 通过移相层后光波与正常光波产生的相位差可用下式表达： 式中 d——移相器厚度； n——移相器介质的折射率； λ——光波波长。 10.3.1移相掩模技术 附加材料造成 光学路迳差异， 达到反相 10.3.1移相掩模技术 移相掩模的主要类型有： 交替式PSM 衰减型PSM 边缘增强型PSM 无铬PSM 混合PSM 10.3.2离轴照明技术 离轴照明技术（OAI）是指在投影光刻机中所有照明