管路设备配置规范及要求依实际工作范围执行-国家研究院.docVIP

財團法人國家實驗研究院 國家奈米元件實驗室 C/R 10K後段金屬薄膜ALD系統-氣體管線 招標規範書 目錄 頁次 1. 工作範圍 3 2. 送審文件 3 3. 管路、設備要求 4 4. 履約期限、測試與驗收 8 5. 保固 11 6. 其他 11 7. 安全規定 11 目的 本規範適用。含管路盤面盤面設計製造、安裝、驗收等之基本要求。 工作範圍： (設備位置如附圖)，得標廠商應完成及提供本之設計、安裝施工，其範圍如下：由至二次盤由二次盤接至機台，。×1 1/4〞：由預留閥接至二次盤含調壓、隔離閥)，出口開Tee設置2隔離閥(詳如附圖-管線流程示意圖)，其一為預留閥，另一則接至機台點×1 1/4〞：由預留閥接調壓、隔離閥至二次盤含隔離閥)、4P調壓、接至機台點×1 1/4〞：由預留閥接調壓、隔離閥至二次盤含隔離閥調壓、接至機台點×1+3/8〞*1、PN2×1、PAr×1： CDA×2 3/8〞預留閥二次盤二次盤(每組二次盤含隔離閥×、調壓器×、過濾器×、逆止閥×)，1/4〞由二次盤接至點接至機台點×1 1/4〞預留閥二次盤二次盤(每組二次盤含隔離閥、調壓器、過濾器、逆止閥)接至機台點 送審文件 文件送審 得標廠商應提送文件至少包括： 管路閥件、二次盤體 (Panel)相關設備規格明細表、數量 本之管路設計及二次盤體 (Panel)設計詳圖。 測試計劃。 得標廠商應提送文件規範說明 工作時程：得標廠商應於（含）起算，個工作日內提出工作執行計畫書（包括各項施工方法、作業程序、施工進度表、規劃設計圖說或文件…等）。對於業主之評註意見應於個工作日內修正完成再次提送業主審查核可。 所有文件以中文標示(型錄依原廠提供) 管路、設備要求 所有穿牆铣孔再密封應符合建築及防火相關規定。 所有GN2、PN2、PO2、PH2、特殊氣體管線銜接應為無縫焊接及VCR gasket compression seals，CDA管線銜接應為無縫焊接及Swagelok gasket compression seals；所有Panel之附屬Parts(如Gasket)均需使用材質材料。 15A以上之PV管線銜接以PVC- SCH80A製程真空管路銜接應為無縫膠接。 警示標示： 管線閥件要標示氣體種類、流動方向等。(管線及閥件標示需與NDL新廠特殊氣體、GN2、PN2、PO2、PH2、CDA、PV等氣體標示格式樣相同。) 所有由Takeff Valve及VMB、VMP預留閥接出之管路，皆應於Takeoff Valve及VMB、VMP處標示接至何處(機台或位置)。 所有新設二次盤、盤箱(GB)均需標示氣體種類、使用之設備機台名稱。二次盤體 (Panel) 設備： 二次盤面設計相關資料 每個PV二次盤必須包含以下元件： 隔離閥一個 Pressure Gauge 自動焊接和Swagelok接頭 一般性特氣(SF6、C4F8、CH3F、CF4、CHF3、Ar、He)及ulk gas(GN2、PN2、PO2、CDA)氣體二次盤必須包含以下元件： 隔離閥二個 調壓器 逆止閥 Filter 自動焊接和VCR 或Swagelok接頭 所有一般性特氣(SF6、C4F8、CF4、CHF3、Ar、He)及ulk gas(GN2、PN2、PO2、CDA、PV)二次盤面均設置於高架地板下，高架地板需更換與本實驗室同規格之可開啟視窗地板，並需能承受人員踩踏為原則。 盤箱(GB、VMB)設備： GAS-BOX盤面設計相關資料 危險性特氣(BCl3、HBr、Cl2、CO、CH3F、CH2F2)GB、PN2 VMB內每條特氣必須包含以下元件： 隔膜閥二個 逆止閥 調壓器 PN2-Purge Line逆止閥二個 Filter 自動焊接和VCR接頭 預留閥(CO、CH3F、CH2F2) 特性不同之危險性特氣GB如有不相容氣體，應依(GAS-BOX盤面設計相關資料)區隔分別設置。 危險性特氣GB需設置差壓計以檢視排氣之正常與否其差壓計測試範圍0-0.1KPa。 危險性特氣GB 內每條特氣有一組N2 purge line (含由GB外氣源連接管路)，應設計雙Check valve並由手動控制。 得標商應於現場進行GB之功能測試，現場測試其氦測漏率應≦1×10-9atm-cc/sec。 管線 管路材料規格： 管路、閥件：GN2、CDA為SUS316LBA級。PV大於15A管採用PVC SCH80A，小於15A管採用SUS316L BA級。PN2、PO2、PH2、特殊氣體為SUS316L EP級(二次盤、盤箱後管路尺寸及材質需配合機台要求)。 CDA隔離閥採用SUS316L BA級Ball valve，其餘氣體需採用隔膜閥(EP級)，GN2為( BA級) 。 PV隔離閥大於15A管採用PVC Ba