《精细有机合成与工艺》第二章 精细有机合成的理论基础.pptVIP

精细有机合成的理论基础-亲核取代反应 4、芳香环上已有取代基的亲核置换反应 （1）重要性（直接引入困难，故采用置换法） a.在芳环上引入某些基团。要在芳环上引入-OH、-OR、-OAr、-NH2、-NHR、-NRR’、-NHAr、-CN和-SH等取代基的化合物，采用环上H的亲核取代相当困难。 但是，亲电取代可以在苯环上引入磺基、硝基、亚硝基、卤基、烷基、酰基、羧甲基和偶氮基等。引入这些基团后，由于这些基团的吸电子作用使与之相连的C原子上的电子云密度比其它C原子降低得更多，因此该位置易发生亲核置换反应。 因此，含上述难引入基团的化合物可以通过两步实现：先亲电取代、后亲核置换。重要反应表2-7。苯磺化碱熔法制苯酚： 精细有机合成的理论基础-亲核置换反应 （2）反应历程（有三种） a.双分子历程 配合物负离子 例如：（P.25. 式2-11）,负离子配合物－迈森海黙配合物。 SO3Na b. 在指定位置处引入某些取代基。如 有时为了在指定位置引入磺基或卤基，也要用到这类亲核置换反应。如： 精细有机合成的理论基础-亲核置换反应历程 b. 单分子历程 c. 去氢苯（苯炔）历程 重氮盐的水解或醇解生成醇或醚是亲核置换反应，其历程按SN1进行： 不活泼的芳香族卤化物，通常的亲核取代条件，卤原子不能被羟基、氨基氰基等取代。如果在强烈的条件下，如氯苯用10～15％的氢氧化钠溶液处理，在一定温度下，发生氯原子被羟基的取代。其反应历程分两步(P.25. ）： ArN2+X- Ar+ + N2 + X- （控制步骤） Ar+ ＋ H2O ArOH + H+ 或 Ar+ ＋ ROH ArOR + H+ 第一步：消除卤化氢，形成去氢苯（苯炔）中间体； 第二步：亲核加成生成取代产物。 上述三种历程中，以双分子（SN2）历程的反应最多。 （3）苯环上其它取代基对反应的影响 精细有机合成的理论基础-亲核置换反应 a.当取代基X的邻、对位有吸电基时，使SN2型亲核取代反应 容易进行。 间位有吸电基时影响不大。例P.26. b.不同的取代基对卤基活性的影响差别较大， 次序：P.26. 。 c.当苯环上同时有卤基和其它吸电性基时，通常都是卤基发生亲核置换，而其它吸电性基不发生变化（重氮基容易分解，氰基容易水解）。 精细有机合成的理论基础 四、消除反应 有机物分子中同时除去两个原子（或原子团），形成一个新分子的反应。这种反应通常是不饱和程度增加的反应。分β消除和α消除两种。 1、β消除反应 消除反应的历程分为双分子历程(E2)和单分子历程(E1)。 β消除：在相邻的两个碳原子上除去两个基团。 生成烯（炔）烃、或碳与杂原子的双键。P.27. α消除： 在同一个碳原子上除去两个基团，也称1,1—消除。生成卡宾（Carbene, C：）。 P.27. 其中β消除反应应用较广。 精细有机合成的理论基础-β消除反应历程 （1）双分子消除反应历程(E2) 双分子消除反应通常在强碱性试剂存在下发生。当亲核性试剂的碱性试剂B接近β－氢时，形成过渡态，而后发生C－H键和C－X键的同时断裂，形成烯键。如上。 反应为二级，反应速度 v =k[B][RX] 精细有机合成的理论基础-β消除反应历程 E2和SN2的比较：E2历程和SN2历程很相似。区别在E2历程中碱性试剂进攻β-氢原子，而SN2历程中反应发生在α碳原子上。 按E2历程进行反应，离去基团的空间排布在理论上有两种，即顺式消除和反式消除。 对烷基化合物，单键可以自由旋转，很难确定按哪种方式进行； 但烯烃衍生物和脂环化合物中，双键和环上的单键自由旋转受到阻碍，就以一种消除方式为主。例见P.27.1,2-二氯乙烯与碱作用生成氯乙炔。 精细有机合成的理论基础-β消除反应历程 （2）单分子消除反应历程(E1) 单分子消除反应历程(E1)分两步进行，分子上离去基先解离掉离去基（控制步骤）生成正碳离子，第二步消除β－质子后形成烯烃： 反应速度与碱的浓度无关，v = k[RX] 可见，当形成的C正离子比较稳定时，反应优先按E1历程进行。E1和SN1反应常同时发生，两者比值常根据溶剂的极性和温度的不同而异。 （3）β－消除反应的定向 精细有机合成的理论基础-β消除反应历程 经验法则：共3条。P.28. a.查依采夫（Sayt