反应磁控溅射方法制备ZnO薄膜试验.ppt

④ 反应溅射应用： ZnO薄膜 氧气 （３）反应磁控溅射： 有机结合反应溅射和磁控溅射特征 Zn靶 本实验氧化锌薄膜制备方法： 反应磁控溅射 4.ZnO薄膜： （１）结构： 闪锌矿结构 纤锌矿结构 ZnO晶胞含有四个原子，其中两个Zn占据(0, 0, 0)和(1/3, 2/3, 1/2)位置；而氧占据(0, 0, 3/8)和(1/3, 2/3, 7/8)位置；晶格常数a=0.324 nm，c=0.519 nm。 具有较大的耦合系数而作为一种压电材料； 响应时间快、感应能力强而应用于光学传感器； 经Al或Ga元素掺杂后，同时具有良好的可见光透过性和类金属的电导率而用做透明导电薄膜； 用Li或Mg掺杂的ZnO可作为铁电材料； ZnO与Mn元素合金化后是一种具有磁性的半导体材料； 大面积高质量的单晶ZnO可以作为蓝色光和紫外光的激光发射器。 （２）性能与应用： 五、实验方法和步骤 （1）超声波清洗器清洗玻璃基片。 （2）安装Zn靶。 （3）玻璃基片放入沉积室里面的样品台上。 （4）检查水源、气源和电源，打开冷却循环水。 （5）抽真空与测量真空度。 机械泵＋分子泵抽真空； 热偶真空计＋电离真空计。 （6）关闭分子泵，机械泵仍然工作，开始通入Ar和O2气体。 （7）沉积ZnO薄膜。 设定工艺参数：功率（400-500W）、靶电压（300-400V）、靶 基距70mm，基片温度室温。 （8）磁控溅射镀膜进行约10分钟，然后结束镀膜。关闭靶电源、氩气 和氧气。 （9）待冷却后，关机械泵，取出薄膜观察。 （10）合上真空室门，将真空室内抽到一定真空后，然后关掉机械 泵，关掉总电源，切断冷却水。 报告内容包括： （１）实验目的、内容和实验的基本原理； （２）实验设备型号及有关参数； （３）实验过程中的现象； （４）实验心得体会。 六、实验报告要求 （1）预习时须认真阅读有关仪器的使用说明，理解仪器操作规程中先后操作步骤的关系； （2）在开启高真空磁控溅射镀膜系统之前，需要确保冷却水已经打开； （3）详细记录实验过程、工艺参数及实验步骤，给出ZnO薄膜制备的实验研究报告。 七、实验注意事项 （1）沉积薄膜之前，基片为什么要进行清洗？ （2）热偶规管和电离规管的工作原理是什么？它们的量程范围是多少？ （3）在观察热偶规及电离规时，若指针来回摆动表明真空系统有何问题？如何解决？ （4）在锌金属靶与氧气进行反应溅射时，靶材会出现那些问题？ （5）简述在溅射过程中溅射功率的调节及注意事项。 八、思考题 薄膜材料与技术 主讲：邹友生材料科学与工程系 实验一 反应磁控溅射方法制备ZnO薄膜实验 一、实验目的 二、实验内容 三、实验仪器设备和材料 四、实验原理 五、实验方法和步骤 六、实验报告要求 七、实验注意事项 八、思考题 提纲： 一、实验目的 （１）通过本实验使学生了解真空泵的使用方法和真空计的测量原理。 （２）使学生了解并熟悉磁控溅射镀膜系统的结构和使用方法。 （３）掌握磁控溅射镀膜的工艺原理及在基片上沉积ZnO薄膜的工艺过程。 二、实验内容 （１）基片的清洗。 （２）低真空和高真空的获得与测量，使用真空计进行真空的跟 踪测量。 （３）设定实验工艺参数、利用反应磁控溅射方法制备ZnO薄膜。 三、实验仪器设备和材料 ２、实验设备： （１）超声清洗器； （２）高真空磁控溅射镀膜系统。 １、试样： 玻璃和硅基片、氩气、氧气、Zn靶、丙酮、酒精。 （１）超声波清洗机： 超声波工作时间可调； 清洗温度在20-80范围可调，可恒温控制溶液温度； 工作频率：42000Hz 功率：200W ?HB-1990QT型 超声波清洗时，在超声波的作用下，机械振动传到清洗液中，使清洗液体内交替出现疏密相间的振动，液体不断受到拉伸和压缩。疏的地方受到拉伸，形成微气泡(空穴)；密的地方受到压缩。由于清洗液内部受超声波的振动而频繁地拉伸和压缩，其结果使微气泡不断地产生和不断地破裂。微气泡破裂时，周围的清洗液以巨大的速度从各个方向伸向气泡的中心，产生水击。这种现象可以通过肉眼直接观察到，即在清洗液中可以看到有剧烈活动的气泡，而且清洗液上下对流。此时若将手指浸入清洗液中，则有强烈针刺的感觉。上述这种现象称为超声空化作用。　　在超声空化作用一定时间后，被清洗件上的污垢逐渐脱落(当然也有清洗液本身的作用在内)，这就是超声波清洗的基本原理。 （２）溅射镀膜沉积系统： ①溅射真空室组件： 真空室（不锈钢材料制造、氩弧焊接、表面进行化学抛光处理），真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。 ②溅射靶组件 ： 锌靶材数量，靶内有水冷，电动控制挡板组件，靶配有屏蔽罩 ③基片水冷加热台组件： 基片尺寸、基片加热温度、基片回转、基片加负偏压 ④工作气