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在现代科技发展中光电科技可说是新兴的领域其应用涵盖各重要的领域
新世紀奈米級光電材料結構 -- 光子晶體
楊志忠
國立台灣大學光電所
e-mail: ccy@cc.ee.ntu.edu.tw
摘 要
光子晶體(photonic crystal)係在二維或三維空間中,讓材料折射率或介電常數產生週期性變化的結構,這種結構模仿原子在固態晶體中的排列。因此,類似電子於固態晶體中的能帶結構,產生光子的能帶結構。在光子晶體中,電磁波的傳播特性,包括振幅、相位、
一、前言
在現代科技發展中,光電科技乃為新興領域,其應用涵蓋各重要範疇,如光纖通訊、光顯示、光資訊儲存、高效率照明及生物醫學方面的應用。隨著光電科技在基礎研究上不斷的突破,它已經在我們的日常生活中造成重大的影響,這樣的影響力並將持續而且擴大。最近十年來,光電科技在新材料的成長技術、新製程技術的發展、高功能元件之設計與製作以及成熟穩定系統的完成,都有傲人的成績。光電科技不僅是重要的科學課題,也是關乎經濟成長的關鍵工業。
在許多處理光訊號的元件結構中,由於電磁波相位週期性的本質,使得週期性結構成為關鍵要素。例如多種不同形式的光柵在所有光電系統中即占重要地位。另外,週期形式介電係數的電、聲、或磁式調變也應用於控制光訊號上。不論是材料的永久或動態調變,都代表電磁波基本參數的控制,包括強度﹝吸收、放射、散射﹞、相位﹝群速、群速色散﹞、偏振﹝非等向性﹞、波長﹝頻譜分佈﹞。這些控制可以經由微觀或介觀的材料成長、製程、幾何尺寸與波長相近之元件結構來達到目標。
二、光子晶體的概念與應用
光子晶體(或叫光子能隙結構晶體)的概念於1987年首先由Yablonovitch[1]及John[2]分別提出。但是它一直沒有受到太多的注意,直到最近這幾年,因為各種製作相關結構的製程技術發展成熟,光子晶體才受到注目。基本上,光子晶體是在二維或三維空間中,讓材料折射率(或介電常數)產生週期性變化的結構,這種結構模仿原子在固態晶體中的排列。所以,類似電子於固態晶體中的能帶結構,在光子晶體中就產生光子的能帶結構。因此,在光子晶體中電磁波的傳播特性,包括振幅、相位、(空氣和所用材料的對比),那麼二維或三維空間光柵所需要的尺寸將會大大地減小,這讓極度緊密的元件積成更容易實現。既然這種人造晶格的結構參數大小可以任意控制,各種光學元件密集的整合積體化將會更容易。光子晶體結構的尺寸約為光訊號在材料內波長的四分之一,所以在大部份光電應用波段內,其尺寸在二十五到一百奈米之間。
三、光子晶體結構與製作
在過去的三四年中,利用各種不同的材料,各式光子晶體的製作技術突飛猛進。研究成果包括:(一)利用乾式蝕刻在三五族半導體上產生空氣洞,配合於中心一個點瑕疵的安排,形成一個微腔半導體雷射的共振腔(參見圖一 – 二維光子晶體結構中心瑕疵的上視圖)[3],這裡所謂的瑕疵即是週期性結構中某些位置該有空氣洞而未有洞;(二)在矽/二氧化矽結構或三五族化合物層上用空氣洞排列成彎曲的波導(參見圖二 -- 二維光子晶體結構中由線瑕疵形成的彎曲波導上視圖)[4,5];(三)由具有特意安排空氣洞的二氧化矽細絲形成的光子晶體光纖(參見圖三 -- 光子晶體光纖的截面圖和近照圖─注意中心有一個瑕疵)[6];(四)奈米尺寸小球自動組合形成的珍珠結構(opal)或反相珍珠結構(inverse opal) (參見圖四 -- 一個珍珠結構的例子)[7];(五)以自行衍生(auto-cloning)技術生長二維或三維矽及二氧化矽交替區域結構[8];(六)電化學蝕刻形成的微孔洞結構[9];(七)以擴散成鍵技術形成三維光子晶體(參見圖五 -- 砷化鎵棒堆疊的例
圖一 二維光子晶體結構中心瑕疵的上視圖
子)[10];(八)二維光子晶體中的第二度非線性光學[11]等等。此外,經由數值模擬計算後,一些基本二維光子晶體的光學特性已經相當瞭解。為了所需求的光學特性和新的應用,人們也提出更多新奇的三維
圖二 二維光子晶體結構中由線瑕疵形成彎曲波導的上視圖
圖三 光子晶體光纖的截面圖(上)和近照圖(下)─注意中心有一個瑕疵
結構。圖六展示出一個例子[12]。所有這些光子晶體結構都顯示出很多新奇的光學現象,這些光學現象都有極廣泛的應用。
光子晶體這些獨特的光學特徵及其應用的重要性可以從下面兩個例子進一步瞭解。第一個例子是在光通訊和其他的系統中,群速色散是一個關鍵的問題,而在適當設計的光子晶體光纖中,群速色散在一個大波長範圍內可以降低到很小的值[5]。雖然到目前為止,所製造出來的光子晶體光纖只到在七百毫微米波長附近具有接近零的群速色散,但是相信在不久的將來,適當設計的光子晶體光纖在一千五百五十毫微米的通信波段上會有接近零的群速色散。如果有這種色散小而又便宜的光纖,光通信技術將會有巨大的改變。另一個光子晶體光纖擁有的重要特徵,亦即在極大的波長範圍內是單模態
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