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电场热处理条件下TiO薄膜的晶化行为研究

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 5$ %5 , , , EKL 45$ DK 4 M=0N %5 ( ) !’;%FB%5B5$ B%#;’5 ,9(, G@HIJ9, IJDJ9, !%5 9A)0 4 GAOC 4 IK 4 电场热处理条件下!#$ 薄膜的晶化行为研究 周 锋 梁开明 王国梁 (清华大学材料科学与工程系,北京 !#$ ) ( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿) %$ # % %$ !! % 利用溶胶 凝胶法和电场热处理工艺在玻璃表面制备出一层 薄膜,采用 , 光谱, 和 等 ’ ()* +(, -./.0 1-+ ,23 % 测试手段分析了 薄膜在电场热处理过程中的晶化行为 然后在理论上分析了外电场对 薄膜热处理过程 ()* 4 ()* % % 的影响,提出了通过引入外电场促进 薄膜从无定形到锐钛矿的相转变的方法 通过甲基橙水溶液的光催化降 ()* 4 % 解实验表明:在5%6 电场热处理条件下的()* 薄膜的光催化效率高于未引入电场热处理的()* 薄膜4 % % 关键词:薄膜,晶化,电场, ()* % : , , %’’ #55 #%78 !59 !: 引 言 % : 实验过程 纳米()* 薄膜在许多领域有着广泛的用途,从 % $ ( )( !# 溶胶的制备 利用()* 实现太阳能转换(光能 化学能、电能), $ ! %

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