简单的pcell制作.docx

利用Cadence virtuoso layout edit制做pcell基本的mos管的pcell建立在新建的cellview中进行以下操作Tools-pcell先layout出一个最简单的MOS 管定义channal 长度和宽度L，W：点击stretch命令进行横向和纵向拉伸Stretch in X ：将出现的控制线，跨过你所需要拉伸的所有layer，然后按enter出现下图所示的图框Name or Expression for stretch：自己取个名字，比如L代表了channal channelReference Dimension （Default）：L的尺寸，默认为控制线所经过的最小layer宽度其他的几个选项可以调整layer 拉伸的方向和最小最大值W用stretch in Y定义然后看看成果点击compile –to pcell，进行编辑点击OK，并且保存。可以看到现在调用出来的MOS 已经是一个可以编辑W，L的器件了。但是我们有的时候我们要用到多个finger并联，所以可以通过设置另外一个参数M来实现。因为M实际上就是一个finger复制M次，所以我们要用到repetition选项，如果这样直接使用这个操作，无法实现我们需要的结果，现在进行repetition的L是原始的L但是希望得到的是L改变后的复制，所以我们用到stretch-qualify点击Qualify，此时控制线可选，点击控制L的线，并希望与其一起变化的layer，并双击或者enter确定现在就可以进行repetition操作了。我们还需要定义一个X方向的辅助参数ods，选中需要repeatlayer，一般是poly，contact，metal，Repetition-repeat in X，Ok，然后进行compile-to pcell同样的方法不用定义ods，然后其他定义和上相同，调用两个pcell可以看出两者的不同横向的repeat后，要进行纵向的repeat一般选择contact repeat。选种需要repeat的layer，然后repeatition-repeat in X and Y上面的参数要根据自己的工艺进行定义这就是一个简单的MOS 的pcell建立方法。下面的定义我们可以用于一个pcell 可以做多个调用，比如我们要用到pmos和nmos，他们两个之间只有一层layer不同，我们可以选择这层layer，来实现NMOS 或者是PMOS，同样我们的一个芯片中很可能要用到不同电压的器件，比如这个工艺所用的1.8 v和3.3v的器件，3.3V比1.8V的多了一层layer，我们可以选择这个层次的有无来选择两种不同的器件，我们就以这个例子来定义。选择需要定义的层次，然后出现的图框中进行定义OkCompile-to pcell并保存如上两图，可以通过TG？的选择，实现MOS从3.3V到1.8V的转换Parameterized shapes的定义选中一层layer ，且只能选种一层layer 然后define：Margin代表说调用图中离左边缘的距离红色定义的layer，margin=0时Margin=2时，Repeat along shape：是在上个定义的基础上进行定义，选种另外一层layerDefine上图参数要选择合适的值这个定义可以定义多层layer ，因此可以定义其他可以用到的层次比如via，metal，等等同时我们还可以用这两个选项进行path的设置如下图设置参数，然后和上述步骤相同Reference point的定义在前面Parameterized shapes的基础上进行下面的定义，选种layer设置endpoint of the path ，选择cont需要定义的位置同理，define by parameterized 和上面同样定义适用于不是矩形图形，可以调节参数X来进行调节上述图形。Inherietedparaneters这个设置主要用于多层次的设置，比如我要建立一个inv，我可以利用已经建立好PMOS，NMOS来实现这个功能，比如我要建立一个NMOS/PMOS，L和M相同，但是W不同的一个inv，如果只是象原来那样设置的话，我无法改变PMOS和NMOS的L，W，M，只能改边最上面设置的几个参数选中PMOS然后定义定义上述的各种参数NMOS 同样定义这个时候进行上层poly，M 的设置，然后根据要求进行连线Parameterized layers这个命令可以选择一些layer进行随意变换，比如选种一层TGDefine第二个选项可以不填，属于可选选项Compile-to pcell ，调用在TG中填入任何一种layer，如nwl，图中的TG便NWL 所替代。Parameterized label：如上图在设置了W，L