材料微观分析总结1.docxVIP

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材料微观分析总结1

X射线与物质的相互作用:·X射线是怎么产生的?什么是标识X射线(特征X射线)谱?什么是连续X射线谱?两种谱的产生机理和特点。X射线是怎么产生的:高速运动的粒子与靶材碰撞,速度骤减,且与靶材原子的核外电子相互作用。产生的条件:加热的灯丝在一个适当的偏压下产生自由电子;该电子以一定的能量撞向靶;电子的能量足以使靶材原子的内层电子激发。连续X射线谱:波长连续变化的X射线谱成为连续谱。特点是在不同的加速电压下,存在一个相应的短波限λ0。产生机理:高速运动的电子突然减速,产生很大的负加速度,这负加速度引起周围电磁场的变化,产生电磁波;或具有一定能量的电子与靶材原子相撞时,电子失去能量,其中一部以X射线辐射出来。大量的电子撞向靶的时间和条件不同,且会发生多次碰撞,每次碰撞的能量损失不同,因此形成了连续谱。连续X射线谱在短波方向有一个波长极限,称为短波限λ0.它是由光子一次碰撞就耗尽能量所产生的X射线。它只与管电压有关,不受其它因素的影响。特征X射线谱:X射线谱上,某波长射线强度突然增加成不连续变化且谱峰波长(位置)不随射线管电流和电压改变而改变的射线,因其波长反映了靶材原子序数的特征而成为特征X射线。这种射线对于靶材原子是有标识性的,因此也称为标识谱。特点是谱峰波长(位置)不随射线管电流和电压改变而改变。发射机理:具有足够能量的电子eV与靶原子核外电子作用,内层电子被激发成为自由电子或填充到未满的高能级上,在相应的壳层上留下空位,外层电子向空位跃迁,同时辐射出特定能量(波长)的X射线。该射线的能量hν=Eb-Ea,Eb,Ea分别为产生跃迁能级和产生空位能级的电子结合能。X射线命名:外层电子跃迁K层,则称该X射线为K系标识X射线,由L层向K层跃迁,则为,由M层向K层跃迁,则为,以此类推。由于L层有三个亚能级,LI\ LII\LIII,由LIII到K称为,由LII到K为,以此类推。X射线强度:比波长长,强度高。的强度约是强度的2倍。什么是吸收(真吸收,漫散射吸收):物质对X射线的吸收指的是X射线能量在通过物质时转变为其它形式的能量,X射线发生了能量损耗。物质对X射线的吸收分为两种方式,一种是原子对X射线的漫散射,它与空气中的灰尘对可见光的漫散射相似,形成漫散射的X射线向四周发散,其能量只占吸收能量的极少一部分。真正意义的吸收是电子在原子内的迁移所引起的,它是一个很大的能量转换过程,例如X射线的一部分能量转变成光电子、俄歇电子、荧光X射线、正负电子对等个体的能量以及热散能量,称之为真吸收。漫散射式的吸收与真吸收构成由质量吸收系数表征的全吸收。吸收限:在某些特定的波长有强烈的吸收,吸收突变点的波长称为吸收限。吸收限是如何产生:老版P13第二段(当入射X射线…)新版p13第三段(当入射X射线…)。滤波片的选择原则:可以选择刚好位于辐射源的和之间并尽可能靠近的金属薄片作为滤波片。滤波片与靶材原子序数的关系:时,;时,X射线光电效应:入射X射线的光子与物质原子中电子相互碰撞时产生的物理效应,称为X射线的光电效应。荧光X射线:为了与入射X射线相区别,称由X射线激发所产生的特征X射线为荧光X射线。俄歇电子:当有层电子跃入K层补充空位时,能量释放会有两种效应,其中之一就是被包括空位层在内的临近电子或叫外层电子所吸收,使该电子受到激发逸出,这种具有特征能量的电子即为俄歇电子。衍射产生的条件:①满足布拉格方程(必要条件)②满足结构因子不为零,即不产生系统消光。(充分条件)布拉格方程表达式:d为晶面间距,θ为入射束与反射面的夹角,λ为X射线的波长,n为衍射级数,sinθ1;;且n为整数,但一般取1。布拉格方程表达的内容,含义:只有照射到相邻两镜面的光程差是X射线波长的n倍时才产生衍射。干涉面:我们把布拉格方程改写成为,而这是面间距为的实际上存在或不存在的假想晶面的一级反射。将这个晶面叫干涉面。干涉面指数:干涉面的面指数为干涉指数,一般用HKL表示。干涉面指数与晶面指数的关系:H=nh;K=nk;L=nl。干涉指数与晶面指数之间的明显差别是干涉指数中有公约数,而晶面指数只能是互质的整数。当干涉指数也互为质数时,它就代表一族真实的晶面。所以说,干涉指数是晶面指数的推广,是广义的晶面指数。结构因子的概念:定量表征原子排布以及原子种类对衍射强度影响规律的参数称为结构因子。即晶体结构对衍射强度的影响因子。消光的概念:晶体结构中如果存在着带心的点阵、滑移面等,则产生的衍射会成群的或系统的消失,这种现象称为系统消光,即由于原子在晶胞中位置不同而导致某些衍射方向的强度为零的现象。影响结构因子的因素:原子种类、原子位置、原子个数。计算结构因数时, 基点的选择原则:基点的选择原则是每个基点能代表一个独立的简单点阵。厄瓦尔德图解法:38道题第九题。反射球:以入射单位矢量S0/起点C为中

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