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用椭偏法侧膜厚与折射率 实验报告 实验者：郑立强 所在班级：应科院 电科07-1 学 号： 0707010121 指导教师：焦隆斌 完成实验日期：09.10.22 摘 要 随着半导体和大规模集成电路工艺的飞速发展，薄膜技术的应用也越加广泛。因此，精确地测量薄膜的厚度与其光学常熟就是一种重要的物理测量技术。 在此次实验中，我们将采用椭圆偏振法，椭圆偏振法广泛的应用在光学、材料、生物、医学等各个领域。而对于在测量薄膜厚度的同时，也可以完成对折射率的测量。 关键词： 椭圆偏振法 薄膜 Abstract With the semiconductor and lager scale IC technology developed,The uses of film technology has became more and more widely.So measure the thickness and optical parameters of the film has became a important measurement. In this experiment,we will use the ellipsometry,Ellipsometry is widely used on optical,materials,biology,medical and so on.At the same time we both can measure the thickness also measure the refractive of the film. Key Words: Ellipsometry Film 一. 实验原理 椭圆偏振法是利用椭圆偏振光入射到样品表面，观察反射光的偏振状态的变化，进而得出样品表面的厚度和折射率。 激光器发出的激光束为单色自然光，经过起偏器P变成线偏振光，其振动方向由起偏器方位角决定，转动起偏器，可以改变线偏振光的振动方向，线偏振光经1/4波片后，由于双折射现象，寻常光和非寻常光产生π/2的相位差，两者振动方向相互垂直，变为椭圆偏振光，其长、短轴沿着1/4波片的快慢轴。椭圆形状由起偏器决定。椭圆偏振光以一定的角度入射到样品表面，反射后偏振光发生改变，从物理光学原理可知道，这种改变与样品表面膜厚度是有关系的。因而可以根据反射光的特征来确定膜层的厚度和折射率。 当一束光以一定的入射角射到一个薄膜系统的表面时，光要在多层介质膜的交界面发生多次反射和折射。反射束的振幅和位相变化与薄膜的厚度和折射率有关。如果入射束采用椭圆偏振光，例如把激光器发出的单色光变成椭圆偏振光投射到样品表面，则只要观测反射偏振光状态的变化（包括振幅和位相），就可以定出膜层的厚度和折射率。 设在硅片表面上复盖均匀透明的同性薄膜系统，如下图所示，Φ0为入射角，Φ1和Φ2为薄膜和衬底的折射角，no为空气折射率，n1为薄膜折射率，n2为衬底折射率。入射光在两个界面来回反射和折射，总反射光由多光束合成。把光的电矢量和磁矢量各分为两个分量，把光波在入射面上的分量称为P波，垂直入射面的称S波。由菲涅尔反射公式，可以给出P波和S波的振幅反射系数（rP, rS）。对空气一薄膜界面(I)： 根据折射定律，Φ1和Φ0应满足下面关系： 对薄膜硅衬底界面（II），同理有如上述确定的关系式。进而可以算出，任意两相邻反射光间的光程差： 由此光程差引起的相邻两级反射光的位相差为2δ，则： 由于薄膜上下表面对光多次反射和折射，我们在空气中看到的是多次反射光相干叠加的结果。引入P波、S波的总振幅反射系数： 根据多光束干涉理论，我们可以求得总振幅反射系数： 定义Ψ，△两个参数： Ψ和△具有角度的量纲，称为椭偏角。tgΨ表征反射光对入射光相对振幅的变化，称为振幅衰减比或相对振幅衰减。△表征经过整个薄膜系统后，P波和S波的位相移动之差，△P和△S表示P波和S波各自的位相移动值，θP和θS表示P波S波的位相。用G表示反射系数比。 此式称为椭圆偏振方程，它表示薄膜厚度d和折射率n；与光偏振状态的变化（Ψ，△）之 间的关系。薄膜厚度和折射率的测量归结为反射系数比的测量。椭偏法测量薄膜厚度和折射率的基本原理就是由实验测得Ψ和△，再由以上关系定出薄膜厚度d和折射率n1。Ψ，△两个参数定义式包含多个物理量，测量比较复杂。为了使问题简化，通常把实验条件作某些限制： (1)使入射光为等幅椭圆偏振光，P波和S波振幅相等。这样，Ψ只与反射光的振幅比有关，可从检偏器方位角算出。 (2)使反射光为线偏振光，即反射光P波和S波的位相差。这样△只与入射光的P波，S波的位相差有关，可从起偏器方位角算出。 二. 实验仪器 在此次实验中，我们