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CHAPTER1 奈米科學與技術之基本概念
第 3章
奈米材料之製備
Chapter3 奈米材料之製備
3.1 氣相法
3.2 液相法
第 3章
奈米材料之製備
材料的某一維尺寸介於 1~100 奈米大小時,即被稱之
為奈米材料。
依照其具 奈米尺度的維度之不同,奈米材料可分為零
維奈米材料( 如圖3.1所示之量子點及 奈米晶粒等) 、一
維奈米材料( 如圖3.2所示之 奈米管、奈米線及奈米柱等)
與二維奈米材料( 如圖3.3所示之量子井、 奈米薄膜及奈
米多層薄膜等) 。
P61
第 3章
奈米材料之製備
3.1氣相法
3.1.1前言
以氣相合成法於基板上成長零維奈米材料與二維奈米材料
之機制可以如圖3.4所示。採用傳統用 來論述薄膜成長機制
之模式來描述之。
1. Frank-Merwe層狀模型:
2. Volmer-Weber島嶼模型:
3. Stranski-Krastanov模型:
第 3章
奈米材料之製備
3.1.2化學氣相沉積 (Chemical Vapour Deposition, CVD)
利用含有構成鍍層之元素的一種或多種化合物之氣體,於
氣相或在基板表面上,發生化學作用而生成所需求之固體薄
膜在化學氣相沉積系統中沉積薄膜或 奈米材料主要發生之步
驟如下:
1. 以熱裂解、光或電漿等方式產生具反應性之氣相物種。
2. 此反應性氣相物種被輸送至反應器。
3.這些先驅物種在氣相中進行氣相均相反應,產生中間相
物種。
(1)在高溫區進行氣相均相反應產生粉末。
(2)低溫區產生之中間相物種,以擴散方式進入基板上
方之邊界層。
第 3章
奈米材料之製備
4.中間相物種吸附於基板上,非均相反應發生於氣固界面,
產生生成物及氣體副產物。
5. 基板上之生成物於加熱之基板上擴散至有利的位置,進
行成核及成長。
6.氣體副產物以擴散方式 離開邊界層(boundary layer) 。
7. 未反應之氣相物種及副產物被輸送至反應器外。
P65
第 3章
奈米材料之製備
P66
通常將上述反應步驟再劃分四種不同反應速
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