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CHAPTER1 奈米科學與技術之基本概念

第 3章 奈米材料之製備 Chapter3 奈米材料之製備 3.1 氣相法 3.2 液相法 第 3章 奈米材料之製備 材料的某一維尺寸介於 1~100 奈米大小時,即被稱之 為奈米材料。 依照其具 奈米尺度的維度之不同,奈米材料可分為零 維奈米材料( 如圖3.1所示之量子點及 奈米晶粒等) 、一 維奈米材料( 如圖3.2所示之 奈米管、奈米線及奈米柱等) 與二維奈米材料( 如圖3.3所示之量子井、 奈米薄膜及奈 米多層薄膜等) 。 P61 第 3章 奈米材料之製備 3.1氣相法 3.1.1前言 以氣相合成法於基板上成長零維奈米材料與二維奈米材料 之機制可以如圖3.4所示。採用傳統用 來論述薄膜成長機制 之模式來描述之。 1. Frank-Merwe層狀模型: 2. Volmer-Weber島嶼模型: 3. Stranski-Krastanov模型: 第 3章 奈米材料之製備 3.1.2化學氣相沉積 (Chemical Vapour Deposition, CVD) 利用含有構成鍍層之元素的一種或多種化合物之氣體,於 氣相或在基板表面上,發生化學作用而生成所需求之固體薄 膜在化學氣相沉積系統中沉積薄膜或 奈米材料主要發生之步 驟如下: 1. 以熱裂解、光或電漿等方式產生具反應性之氣相物種。 2. 此反應性氣相物種被輸送至反應器。 3.這些先驅物種在氣相中進行氣相均相反應,產生中間相 物種。 (1)在高溫區進行氣相均相反應產生粉末。 (2)低溫區產生之中間相物種,以擴散方式進入基板上 方之邊界層。 第 3章 奈米材料之製備 4.中間相物種吸附於基板上,非均相反應發生於氣固界面, 產生生成物及氣體副產物。 5. 基板上之生成物於加熱之基板上擴散至有利的位置,進 行成核及成長。 6.氣體副產物以擴散方式 離開邊界層(boundary layer) 。 7. 未反應之氣相物種及副產物被輸送至反應器外。 P65 第 3章 奈米材料之製備 P66 通常將上述反應步驟再劃分四種不同反應速

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