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有机合成化学与路线设计 林建荣 第八章 * * * * * 保护基团 有机合成化学与路线设计 8、保护基团 　有机化合物可能含有多种官能团，为了不使某些官能团被反应可先将某些基团保护起来，不使其作用，事后再将保护基团除去。 保护基应满足下列3点要求： （1）容易引入所要保护的分子（温和条件）； （2）与被保护基形成的结构能够经受住所要发生的反应的条　 　　　件，而不起反应； （3）不损及分子其余部分的条件下除去。 有机合成化学与路线设计 8.1 羟基的保护 　保护醇类ROH的方法一般是将羟基制成醚类ROR’或酯类ROCOR’，前者对氧化剂或还原剂较稳定，后者对OH￣、还原剂不稳定，较少用。 8.1.1 形成甲醚类ROCH3 用NaH/Me2SO4、银盐RO￣–Ag+ + CH3I、RONa + CH3I等。 ROH NaOH、(CH3)2SO4 (CH3)3SiI、CHCl3 ROCH3 有机合成化学与路线设计 脱去： R O CH3 ?? ?? (CH3)3Si　 I CHI3 + ROSi(CH3)3 H2O ROH + (CH3)3SiOH ROH Na RONa CH3I H+、? ROCH3 8.1.2 形成叔丁基醚类ROC(CH3)3 ROH + BF3、(C2H5)2O HCl、CH3OH、? RO 有机合成化学与路线设计 8.1.3 形成苄醚ROCH2Ph ROH NaH、PhCH2Br Li、NH3 ROCH2Ph 8.1.4 形成三苯基甲醚ROCPh3 ROH Ph3CCl3、砒碇、DMAP ZnBr2或H2/Pd ROCH2Ph 选择地保护一级醇、三醇因位阻不易起作用。 HOCH2 O OH T 　　　　保护 （用三苯基氯甲烷） 慢不易被保护 有机合成化学与路线设计 8.1.5 形成甲氧基甲醚ROCH2OCH3 ROH ClCH2OCH3、i-Pr2NC2H5 TiCl4或CF3CO2H ROCH2OCH3 甲氧基甲醚在碱性条件下和一般质子酸中有相当的稳定性，但此保护基团可用强酸（CF3CO2H）或Lewis酸在激烈条件下脱去。 有机合成化学与路线设计 ROH TsOH、吡啶 O HOAc、H2O O RO 8.1.6 形成四氯吡喃ROTHP 在酸性水溶液中进行水解，即可脱去保护基团。 CH CCH2OH O H+ O OCHC CH C2H5MgBr THF O OCH2C CMgBr ①CO2 ②H+、H2O HOCH2C CCO2H 有机合成化学与路线设计 8.1.9 形成乙酸酯类ROCOCH3 ROH (CH3CO)2O、吡啶 K2CO3溶液、CH3OH ROCCH3 O 一级、二级 三级醇可用活性更高的 CH3CCl O 与大多数的还原剂作用，在强碱中也不稳定，因此很少用作有效的保护基团。 有机合成化学与路线设计 8.2.1 形成缩醛或缩酮 一般使用的羰基化合物是丙酮或苯甲醛。 保护1，2–二醇 在酸催化下 1，3–二醇 在氯化锌存在 假如可以在碱性条件下进行，则烷基化，酰基化、氧化和还原时用于保护二醇： 8.1.10 形成苯甲酸酯类ROCOPh 较乙酸酯类稳定些。 有机合成化学与路线设计 如： ① OH OH H+ O OH O O PCC、NaOAC O OTHP H ①n-C6H13MgBr ②H3+O OH OTHP n-C6H13 OH OH n-C6H13 CH3OH、H+ 有机合成化学与路线设计 ② O O OH H Ph H ①CH3(CH2)14COCl ②H2/PCl CHOC (CH2)14CH3 O CH2OH CH2OH CH2OH CHOH CH2OH PhCHO、HCl CH3COCH3 HCl CH2OH O O CH3 CH3 ①CH3(CH2)14CO2H ②H2O/H+ CH2OH CHOH CH2OC(CH2)14CH3 O 有机合成化学与路线设计 HO HO CH3 C CH3 OCH3 OCH3 TsOH O O CH3 CH3 ①m-CPBA ②(CH3)2CuLi O O CH3 CH3 CH3 OH 少量HCl O O CH3 CH3 CH3 HO 有机合成化学与路线设计 8.2.2 形成碳酸环跖 顺式1，2–二醇保护生成在中性和温和酸性条件下稳定的碳酸环酯。可以进行氧化还原反应，用碱性试剂处理脱去。 O PhCH2OCH OCH3 OH OH COCl2 吡啶 O PhCH2OCH OCH3 O O O ① HBr ② (PhCH2O)2PO2N(C2H5)