一种大尺寸晶圆级纳米图形化蓝宝石衬底的方法和装置.pdfVIP

说明书摘要 本发明公开一种大尺寸晶圆尺度纳米级图形化蓝宝石衬底的装 置和方法。该装置包括：承载晶圆的工作台，涂铺有抗蚀剂的整片晶 圆或者衬底，滚轮型压印模具，紫外光光源，压印机构。基于该装置 采用滚对平面纳米压印工艺实现晶圆级纳米图形化蓝宝石衬底的方 法：（1）沉积硬掩模层和旋涂纳米压印用抗蚀剂；（2 ）采用滚对平面 纳米压印工艺和装置图形化抗蚀剂；（3 ）抗蚀剂图形转移到硬掩模层 和蓝宝石衬底；（4 ）去除抗蚀剂和硬掩模层，并清洗图形化后的蓝宝 石衬底。本发明还可用于碳化硅、硅、砷化镓、氮化镓等其它材料衬 底的图形化制造，以及太阳能电池、燃料电池双极板、微光学透镜、 微流控器件等微纳结构的制造。具有结构简单、成本低、生产率高、 压印面积大、适合规模化制造的特点。 摘要附图 5 703 704 4 3 2 203 1 702 202 201 102 701 101 权利要求书 1. 一种大尺寸晶圆级滚对平面纳米压印的装置，其特征是，它 包括：承载晶圆的工作台，涂铺有抗蚀剂的整片晶圆或者衬底，滚轮 型压印模具，紫外光光源，压印机构。滚轮型压印模具固定于压印机 构的底部；涂铺有抗蚀剂的整片晶圆或者衬底置于晶圆工作台真空吸 盘之上；紫外光光源置于滚轮型压印模具已经完成压印结构的一侧， 垂直于晶圆或者衬底的正上方。 2. 如权利要求1 所述的大尺寸晶圆级滚对平面纳米压印的装置， 其特征是，所述模具为圆柱滚轮型结构，特征图形位于圆柱结构的外 表面。材料为金属镍、铜、 Cr、PDMS 、PET 、钢中的一种。滚压印 模具的制造方法为激光刻蚀、电化学、化学刻蚀、飞秒激光加工的一 种或者几种的组合。 3. 如权利要求1 所述的大尺寸晶圆级滚对平面纳米压印的装置， 其特征是，在压印过程中，所述滚轮型压印模具与承载晶圆的工作台 运动方向保持一致，并且承载晶圆工作台的运动速度v 与滚轮型压印 模具的转速n 保持如下关系：n=1000v/πd；其中d 为滚轮型压印模具 的直径；n 、v 和d 的单位分别为：r/min ；m/min ；mm 。二者必须保 持同步运动。 4. 如权利要求1 所述的大尺寸晶圆级滚对平面纳米压印的装置， 实现晶圆级滚对平面纳米压印方法，其特征是，（1）预处理过程。工 作台运动到放置晶圆的工位，将涂铺有抗蚀剂的整片晶圆置于工作台 的真空吸盘之上，通过真空吸盘固定在工作台上；工作台运动到纳米 压印的初始工位，压印机构带动滚轮型压印模具下降到纳米压印工位。 采用超声波雾化工艺，在滚轮型压印模具表面涂覆一层脱模剂。（2 ） 压印和固化过程。首先